[发明专利]一种二极管的制造方法及由此制得的二极管有效
申请号: | 201711248776.5 | 申请日: | 2017-12-01 |
公开(公告)号: | CN108010841B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 刘云燕;李广德;王仁东;修俊山;付圣贵;谢德怀;魏芹芹;孙艳 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | H01L21/329 | 分类号: | H01L21/329;H01L29/861 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 255000 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 制造 方法 由此 | ||
本发明公开了一种二极管的制造方法及由此制得的二极管,本发明的制造方法包括二极管晶粒制备、填装、焊接、清洗封装步骤,本发明利用晶粒和焊片在高温下不同的热膨胀系数及形变,焊接前无需提前对正晶粒,即可实现焊接后晶粒自动拉正,气孔面积大大减小,提高焊接质量,经由氢氟酸:醋酸:硫酸:硝酸的体积比=8.8:13:5.6:9.2制得的混合酸酸洗后的晶粒电性良率高。
技术领域
本发明属于高压硅堆领域,尤其涉及一种二极管的制造方法及由此制得的二极管。
背景技术
当前晶粒制造的一般方法是采用整片硅片焊接堆积后再切开的工艺,焊接夹具笨重复杂,并且由于整片硅片在之前扩散工艺造成的形变,大片焊片高温熔化后分布不均匀,导致切割过程破损率高,切开后的小单元还要二次装填以焊接引线,二次焊接造成晶粒二次损伤,焊接次数越多损伤越严重。如上工艺不仅过程复杂,设备庞杂,而且成本高,成品率低(80%左右)。
一般的晶粒生产,容易导致晶粒的极性反转,极性不一致,因此在焊接之前需要将晶粒的极性进行挑选和验证,这给后续正确的焊接带来极大的麻烦。
常规的晶粒焊接,没有人对于焊片与晶粒之间的尺寸比例关系进行详细和认真的研究,因此一直没能对于晶粒焊接的对正问题作出贡献。
而且行业内普遍采用硅堆焊接的温度为大于350℃的,在小于350℃的时,会出现焊接不良的情况,当温度达到350℃~380℃才能实现良好的焊接,但高温导致焊接出的硅堆焊接气孔大,气孔面积一般在8~20%,良品率低(小于90%),而且浪费能源。
酸洗是对焊接后的二极管,在上白胶之前进行的一个关键步骤和工艺,用酸洗掉晶粒切割时造成的pn结切割面毛糙,避免酸洗可能导致的表面腐蚀坑,简单有效去除铜、铅等不易冲洗物质,可以提高电性良率,提升酸洗工艺品质。
许多的二极管经常在60℃以上的环境中工作,芯片的结温常常会达到125℃以上,因此,提高产品的高温反偏能力是非常有意义的。用传统工艺生产,它们的高温反偏合格率只能达到60%左右,为使产品更加有竞争优势,产品的质量和高温环境下的可靠性得以提高,提高产品的高温反偏筛选合格率的工艺技术一直没有突破。
当前混酸的常规配方,出现部分产品酸洗后表面毛糙,而且会造成相当比例的表面腐蚀坑。
发明内容
鉴于已有技术存在的缺陷,本发明提供了一种二极管的制造方法及由此制得的二极管,由本发明制作方法生产的二极管反向耐压高,而正向电压小,本发明只需一次装填焊接即可将晶粒通过焊接自动对正,而且焊接气孔面积小,良品率高。本发明的酸洗工艺能够最大程度洗净切割面毛糙,有效避免了酸洗可能导致的表面腐蚀坑,提高了产品的电性良率。
本发明要解决的技术问题的技术方案是:
一种二极管的制造方法,包括如下步骤:
步骤1:二极管晶粒的制备
1.1、在硅晶片的厚度方向预切割,形成不完全切开的方形的二极管晶粒,硅晶片的切割深度为硅晶片总厚度的3/5~4/5。
1.2、将在厚度方向预切割的硅晶片N面朝上放在晶粒裂解纸上,切割刀口方向朝上,轻压,使得不完全切开的二极管晶粒完全裂解。
步骤2:装填
2.1、将下引线装入下焊接舟。
2.2、将焊片放入焊片吸盘,并移入焊接舟,焊片落在引线之上;二极管晶粒放入焊接舟,落在焊片之上,二极管晶粒上放置焊片,在焊接舟表面均匀喷洒助焊剂,最后合上载有上引线的上焊接舟。
二极管晶粒可以任意角度放入,无需刻意调整晶粒放入的角度,焊片放入时也无需刻意调整位。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造