[发明专利]负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法

权利要求书

1.一种负性光刻胶，其特征在于：所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂及硅烷偶联剂，所述环化聚异戊二烯的分子量为10万～14万，环化率为62～82％；所述溶剂为二甲苯溶液；所述光敏剂采用2，6-二[(4-叠氮基苯基)亚甲基]-4-甲基-环己酮或2，6-二(4-叠氮苯亚甲基)-4-甲基-环戊酮；所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷的一种或几种，所述硅烷偶联剂的含量界于1000ppm～5000ppm之间。

2.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述硅烷偶联剂的含量为1500ppm～2000ppm。

3.一种悬浊液，包括相互混合的负性光刻胶及玻璃粉，所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂，其特征在于：所述环化聚异戊二烯的分子量为10万～14万，环化率为62～82％；所述溶剂为二甲苯溶液；所述光敏剂采用2，6-二[(4-叠氮基苯基)亚甲基]-4-甲基-环己酮或2，6-二(4-叠氮苯亚甲基)-4-甲基-环戊酮；所述悬浊液还包括硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷的一种或几种，所述硅烷偶联剂的含量界于400ppm～2000ppm之间。

4.一种如权利要求3所述悬浊液的配制方法，其特征在于，所述配制方法包括：

提供负性光刻胶，包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂及硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷的一种或几种；

提供玻璃粉；

提供球磨罐及氧化锆球，将所述负性光刻胶、玻璃粉及氧化锆球一并放入所述球磨罐中进行研磨，研磨时间t设置为2～12h。

5.一种如权利要求3所述悬浊液的配制方法，其特征在于，所述配制方法包括：

提供负性光刻胶，包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂；

提供硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷的一种或几种；

提供玻璃粉；

提供球磨罐及氧化锆球，将所述负性光刻胶、玻璃粉、硅烷偶联剂及氧化锆球一并放入所述球磨罐中进行研磨，研磨时间t设置为2～12h。