[发明专利]真空腔及真空腔的制备方法

说明书

本发明公开了一种真空腔及真空腔的制备方法，其中真空腔具有支撑件和腔室壁，其中，所述腔室壁上形成有定位面；所述支撑件的底面上形成有凹陷的洁净区，所述底面位于所述定位面上，并且，所述支撑件与所述腔室壁密封连接；在所述支撑件的顶面上形成有第一螺纹孔，所述第一螺纹孔贯通至所述洁净区。本发明的真空腔中，底面与定位面密封连接，没有边缝，不会藏污纳垢，并且底面上具有洁净区，顶面上具有与洁净区贯通的第一螺纹孔，能够顺畅的放气，不会窝气藏气，同时，通过第一螺纹孔可以直接对清洁区进行清洗，从而整体上提高了真空腔内的洁净度，避免零件的污染。

技术领域

本发明涉及一种真空腔及真空腔的制备方法。

背景技术

目前，在真空行业中真空系统设备根据产品需求和工作场合对设备关键部件的洁净度要求不同。真空腔作为设备中的一个关键部件，是各种执行部件的承载体，同时它也提供了一种真空洁净环境。

现有的真空腔内部支撑件主要由圆柱体、长方体或者组合形状的零件组成，它们是直接焊接在腔室壁上的，与腔室壁有较大的接触面积，且考虑到放气的要求，这些零件与腔室壁间的焊接都是断续焊接。这样的结构方式使两者之间形成狭窄的半封闭空间，很容易藏污纳垢且不易清除，也不利于很好的放气。这在一般真空或洁净度要求不高的设备使用是可以的，但对于太阳能镀膜设备来说，会造成局部藏气、隐藏杂质难以清除、杂质随处飘散的问题，还会对成膜质量造成影响。

发明内容

本发明的目的是提供一种真空腔及真空腔的制备方法，解决支撑零件局部藏污、藏气的问题，且容易清洗，不会污染其他零件。

本发明的真空腔，具有支撑件和腔室壁，其中，所述腔室壁上形成有定位面；所述支撑件的底面上形成有凹陷的洁净区，所述底面位于所述定位面上，并且，所述支撑件与所述腔室壁密封连接；在所述支撑件的顶面上形成有第一螺纹孔，所述第一螺纹孔贯通至所述洁净区。

如上所述的真空腔，其中，所述支撑件与所述腔室壁满焊连接。

如上所述的真空腔，其中，所述第一螺纹孔至少具有两个。

如上所述的真空腔，其中，在所述顶面上还设置有第二螺纹孔，所述第二螺纹孔与所述洁净区之间阻断。

如上所述的真空腔，其中，在所述支撑件上形成有放气通孔，所述放气通孔贯通所述支撑件，且与所述第二螺纹孔底部相通。

如上所述的真空腔，其中，所述定位面为形成在所述腔室壁上的凹陷面。

如上所述的真空腔，其中，所述定位面凹陷的深度为1mm-2mm。

如上所述的真空腔，其中，所述洁净区凹陷的深度为2mm-5mm；所述洁净区呈锥形的敞口结构。

本发明真空腔的制备方法，包括在腔室壁上形成定位面；在支撑件的底面上形成凹陷的洁净区，在所述支撑件的顶面上形成贯通至所述洁净区的第一螺纹孔；将所述底面放置于所述定位面上，并将所述支撑件与腔室壁密封连接；使用螺钉与所述第一螺纹孔螺接后，研磨加工所述顶面。

如上所述的真空腔的制备方法，其中，所述支撑件与所述腔室壁满焊焊接，和/或，在所述螺钉与所述第一螺纹孔之间设置有密封垫。

本发明的真空腔中，底面与定位面密封连接，没有边缝，不会藏污纳垢，并且底面上具有洁净区，顶面上具有与洁净区贯通的第一螺纹孔，能够顺畅的放气，不会窝气藏气，同时，通过第一螺纹孔可以直接对清洁区进行清洗，从而整体上提高了真空腔内的洁净度，避免零件的污染。

附图说明

图1为本发明真空腔中支撑件部分的示意图；

图2为本发明真空腔中腔室壁部分的示意图；

图3为本发明真空腔的剖视图；