[发明专利]蔓荆子规范化优质高产栽培技术在审

专利信息
申请号: 201711259010.7 申请日: 2017-12-04
公开(公告)号: CN107926512A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 宫光前 申请(专利权)人: 宫光前
主分类号: A01G22/00 分类号: A01G22/00;A01G7/06;A01G13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 236600 安徽省阜阳市太*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 蔓荆子 规范化 优质 高产 栽培技术
【说明书】:

技术领域

发明涉及中药材栽培技术中的蔓荆子规范化优质高产栽培技术,能够很好地解决蔓荆子规范化优质高产栽培技术中的优质高产高效问题。

背景技术

传统的蔓荆子种植,产量低:亩产只有10-30公斤;含量低:大多都达不到2015版药典0.03%的标准;除草难:都是人工除草。不仅麻烦辛苦,而且效率低,稍不注意就会形成草荒,不仅对蔓荆子生长产生极为不利影响,造成蔓荆子大幅减产。还增加了生产成本。这远远不能满足蔓荆子市场的需求。为了降低药农的劳动强度,降低生产成本,满足日益增长的市场需求,达到优质高产高效的目的。本发明蔓荆子规范化优质高产栽培技术经多年反复试验,最终研究成功。达到了优质:蔓荆子含量高达0.275%是国标0.03%的9倍,浸出物为19.3%是国标8%的2.4倍。高产:采用本发明种植的蔓荆子当年产量就达50-100公斤,是传统技术产量的3-5倍。达到了该领域的领先水平。为蔓荆子的规模化、规范化种植,标准化、产业化发展奠定了基础。

发明内容

本发明所要解决的技术在于提供一种先进科学、方便快捷、优质高产高效的蔓荆子规范化优质高产栽培技术方案。

本发明所要解决的技术问题采用以下方案来实现:蔓荆子规范化优质高产栽培技术由使用的种子种苗为新品种“宫集蔓荆子”。施用的肥料为“中药材专用肥”。除草技术中使用的产品是“蔓荆子专用除草剂”。通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范的技术措施,来达到优质高产高效目的。

蔓荆子规范化优质高产栽培技术所述技术中:使用的种子种苗为新品种“宫集蔓荆子”。施用的肥料为“中药材专用肥”。除草技术中使用的产品是“蔓荆子专用除草剂”。通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范措施,形成蔓荆子规范化优质高产栽培技术。

蔓荆子规范化优质高产栽培技术其特征在于:使用的种子种苗为新品种“宫集蔓荆子”。施用的肥料为“中药材专用肥”。除草技术中使用的产品是“蔓荆子专用除草剂”。通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范措施,形成蔓荆子规范化优质高产栽培技术。。

本发明的有益效果是:通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范技术措施,达到优质高产高效的目的。本发明蔓荆子规范化优质高产栽培技术经多年反复试验,达到了优质:蔓荆子含量高达0.275%是国标0.03%的9倍,浸出物为19.3%是国标8%的2.4倍。高产:采用本发明种植的蔓荆子当年产量就达50-100公斤,是传统技术产量的3-5倍。达到了该领域的领先水平。为蔓荆子的规模化、规范化种植,标准化、产业化发展奠定了基础。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面进一步阐述本发明。

蔓荆子规范化优质高产栽培技术,由使用的种子种苗为新品种“宫集蔓荆子”。施用的肥料为“中药材专用肥”。除草技术中使用的产品是“蔓荆子专用除草剂”。通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范措施组成。

蔓荆子规范化优质高产栽培技术中,使用的种子种苗为新品种“宫集蔓荆子”。施用的肥料为“中药材专用肥”。除草技术中使用的产品是“蔓荆子专用除草剂”。通过对蔓荆子栽培中的各环节,采用优良的环境、优质的良种、优质的肥料、先进的除草技术等生产管理规范技术措施,形成蔓荆子规范化优质高产栽培技术。

田间试验结果表明:采用蔓荆子规范化优质高产栽培技术,达到了优质高产高效的目的。经多年反复试验,达到了优质:蔓荆子含量高达0.275%是国标0.03%的9倍,浸出物为19.3%是国标8%的2.4倍。高产:采用本发明种植的蔓荆子当年产量就达50-100公斤,是传统技术产量的3-5倍。从而使达到了该领域的领先水平。为蔓荆子的规模化、规范化种植,标准化、产业化发展奠定了基础。

以上描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实例的限制,上述实例和说明书中描述的只是本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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