[发明专利]线圈组件和包括该线圈组件的供电单元在审
申请号: | 201711261109.0 | 申请日: | 2015-05-22 |
公开(公告)号: | CN107946049A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 张世辉;崔兴均;安德振;朴根泳;严在根 | 申请(专利权)人: | 株式会社搜路研 |
主分类号: | H01F27/30 | 分类号: | H01F27/30;H01F27/28;H01F27/29;H01F38/14 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 钱海洋,金光军 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 线圈 组件 包括 供电 单元 | ||
1.一种线圈组件,所述线圈组件包括:
芯;
第一线圈部和第二线圈部,在彼此堆叠时结合到所述芯;
绝缘构件,容纳所述第二线圈部,
其中,所述绝缘构件包括沿竖直方向延伸并设置在所述芯和第二线圈部的引线之间的凸缘部。
2.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述第二线圈部由扁形线形成。
3.根据权利要求2所述的线圈组件,其中,所述第一线圈部包括多层基板,在所述多层基板中,堆叠有至少一个图案层,所述至少一个图案层包括按照线圈形状形成的导电图案。
4.根据权利要求3所述的线圈组件,其中,所述扁形线具有按照与所述第一线圈部的导电图案的形状对应的形状形成的缠绕部。
5.根据权利要求3所述的线圈组件,其中,所述扁形线具有与通过所述第一线圈部的导电图案形成的线圈图案的总宽度对应的宽度。
6.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述绝缘构件包括第一绝缘构件和第二绝缘构件,所述第二线圈部容纳在通过使所述第一绝缘构件与所述第二绝缘构件彼此结合而形成的内部空间中。
7.根据权利要求6所述的线圈组件,其中,所述绝缘构件的所述第一绝缘构件与所述第二绝缘构件通过安装结合彼此一体地形成。
8.根据权利要求6所述的线圈组件,其中,所述第一绝缘构件具有按照侧壁形式形成的安装突起,所述第二绝缘构件具有安装槽,所述安装突起插入到所述安装槽中。
9.根据权利要求8所述的线圈组件,其中,所述绝缘构件具有形成在所述绝缘构件的一侧的开口,所述第二线圈部的引线部通过所述开口暴露,所述安装突起和所述安装槽沿着所述绝缘构件的除了所述开口之外的侧表面形成。
10.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述凸缘部设置在所述第一线圈部与所述第二线圈部的引线之间,以确保所述第一线圈部和所述第二线圈部的所述引线之间的绝缘距离。
11.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,当所述线圈组件安装到主板上时,所述凸缘部的至少一部分被设置为在穿过所述主板的同时插入到所述主板中。
12.根据权利要求1所述的线圈组件,所述线圈组件还包括:
至少一个端子销,所述至少一个端子销在穿过所述绝缘构件的同时紧固到所述绝缘构件。
13.根据权利要求12所述的线圈组件,其中,所述至少一个端子销具有电连接到所述第一线圈部的一端以及电连接到主板的另一端。
14.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述绝缘构件通过注射成型形成。
15.一种线圈组件,所述线圈组件包括:
第一线圈部,包括多层基板;
第二线圈部,包括扁形线,所述第二线圈部与所述第一线圈部堆叠;
芯,结合到所述第一线圈部和所述第二线圈部;
绝缘构件,确保所述第二线圈部与所述芯之间绝缘,
其中,所述绝缘构件包括从设置有开口的部分向外延伸的凸缘部,
其中,所述凸缘部设置在所述芯与所述第二线圈部的引线之间,以确保所述芯和所述第二线圈部的所述引线之间的绝缘距离。
16.一种线圈组件,所述线圈组件包括:
第一线圈部,包括多层基板;
第二线圈部,包括扁形线,所述第二线圈部与所述第一线圈部堆叠;
芯,结合到所述第一线圈部和所述第二线圈部;
绝缘构件,确保所述第二线圈部与所述第一线圈部之间绝缘,
其中,所述绝缘构件包括从设置有开口的部分向外延伸的凸缘部,
其中,所述凸缘部设置在所述芯与所述第二线圈部的引线之间,以确保所述芯和所述第二线圈部的所述引线之间的绝缘距离。
17.一种供电单元,所述供电单元包括:
线圈组件,包括第一线圈部和第二线圈部以及绝缘构件,所述第一线圈部和第二线圈部彼此堆叠并结合到芯,所述绝缘构件将所述第二线圈部容纳在所述绝缘构件内部;
主板,所述线圈组件安装到所述主板上;
至少一个一次电子组件和至少一个二次电子组件,安装到所述主板上,
其中,所述绝缘构件包括从设置有开口的部分向外延伸的凸缘部,
其中,所述凸缘部设置在所述芯与所述第二线圈部的引线之间,以确保所述芯和所述第二线圈部的所述引线之间的绝缘距离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社搜路研,未经株式会社搜路研许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711261109.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。