[发明专利]基于双光路的快速扫描装置及应用其的扫描方法有效
申请号: | 201711262463.5 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN107870511B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 刘建明;刘庄;张彦鹏 | 申请(专利权)人: | 江苏维普光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03B15/02;G03B15/00 |
代理公司: | 常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙) 32308 | 代理人: | 肖兴坤 |
地址: | 213000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 双光路 快速 扫描 装置 应用 方法 | ||
1.一种基于双光路的快速扫描装置,用于检测被测物体(10),其特征在于,它包括物镜(1)、数据采集成像单元、辅成像单元、第一分光镜(2)、第二分光镜(3)、第三分光镜(4)、反射光源(5)和透射光源(6);其中,
当打开透射光源(6)时,所述透射光源(6)发出的光线透过被测物体(10)并照射进物镜(1)后,再经过第一分光镜(2)的透射和第二分光镜(3)的透射后进入数据采集成像单元;
当打开反射光源(5)时,反射光源(5)发出的光线经过第一分光镜(2)的反射进入物镜(1)后照射至被测物体(10)表面上再反射至物镜(1)中,然后经过第一分光镜(2)的透射后进入所述第二分光镜(3),进入第二分光镜(3)的光经其反射后再经过第三分光镜(4)的反射进入辅成像单元;进入第二分光镜(3)的光还经其透射后进入数据采集成像单元;
打开反射光源(5),关闭透射光源(6),利用辅成像单元完成半导体掩膜版的对准操作;打开透射光源(6),同时关闭反射光源(5),利用数据采集成像单元完成对半导体掩膜版的数据采集工作;
或者是:打开反射光源(5),关闭透射光源(6),利用辅成像单元完成晶圆的对准操作;保持反射光源(5)打开和透射光源(6)关闭的状态,再利用数据采集成像单元完成对晶圆的数据采集工作;
还包括第四分光镜(91)和物镜聚焦控制模块(92),进入第三分光镜(4)的光还经其透射后,再经过第四分光镜(91)的反射进入物镜聚焦控制模块(92),所述物镜聚焦控制模块(92)与所述物镜(1)控制连接,以便所述物镜聚焦控制模块(92)根据第四分光镜(91)反射的光所形成的图像调节物镜(1)的高度。
2.根据权利要求1所述的基于双光路的快速扫描装置,其特征在于:所述数据采集成像单元包括数据采集相机(71)和数据采集筒镜(72),所述数据采集筒镜(72)和所述数据采集相机(71)沿着光路方向依次设置。
3.根据权利要求2所述的基于双光路的快速扫描装置,其特征在于:所述数据采集相机(71)为线阵相机。
4.根据权利要求1所述的基于双光路的快速扫描装置,其特征在于:所述辅成像单元包括辅成像相机(81)和辅筒镜(82),所述辅筒镜(82)和所述辅成像相机(81)沿着光路方向依次设置。
5.根据权利要求4所述的基于双光路的快速扫描装置,其特征在于:所述辅成像相机(81)为面阵相机。
6.一种应用如权利要求1至5中任一项所述的基于双光路的快速扫描装置的扫描方法,其特征在于所述方法用于检测半导体掩膜版,方法的步骤中含有:
(a)将半导体掩膜版置于透射光源(6)和物镜(1)之间;
(b)打开反射光源(5),关闭透射光源(6),利用辅成像单元完成半导体掩膜版的对准操作;
(c)对准操作完毕后,打开透射光源(6),同时关闭反射光源(5),利用数据采集成像单元完成对半导体掩膜版的数据采集工作。
7.一种应用如权利要求1至5中任一项所述的基于双光路的快速扫描装置的扫描方法,其特征在于所述方法用于检测晶圆,方法的步骤中含有:
(a)将晶源置于透射光源(6)和物镜(1)之间;
(b)打开反射光源(5),关闭透射光源(6),利用辅成像单元完成晶圆的对准操作;
(c)对准操作完毕后,保持反射光源(5)打开和透射光源(6)关闭的状态,再利用数据采集成像单元完成对晶圆的数据采集工作。
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