[发明专利]一种近距适形内照射支架及其制造方法

权利要求书

1.一种近距适形内照射支架，其特征在于：所述近距适形内照射支架包括支架载体和局部加强放射性同位素高分子医用薄膜，支架载体为金属支架载体或复合金属支架载体，复合金属支架载体上覆盖有医用聚胺酯或医用硅橡胶，所述医用薄膜至少部分包覆于支架载体外周面，所述医用薄膜至少包括一层，所述医用薄膜包括第一薄膜层，第一薄膜层厚度均匀，位于支架载体外侧，第一薄膜层至少部分覆盖支架载体的外侧面积，所述医用薄膜层还包括第二薄膜层，第二薄膜层位于第一薄膜层外侧，第二薄膜层至少部分覆盖第一薄膜层外侧面积。

2.根据权利要求1所述近距适形内照射支架，其特征在于：其中所述的支架载体具有激光雕刻花纹或手工编织花纹，支架载体为钛基合金金属、钴基合金金属、铂芯镍钛合金多层合金金属或316L不锈钢。

3.根据权利要求1所述近距适形内照射支架，其特征在于：其中所述局部加强放射性同位素高分子医用薄膜放射活度约为3.7×107Bq-7.4×108Bq(1mCi-20mCi)，活度范围根据患者的肿瘤体积及形态制订相应的治疗计划进行选择。

4.根据权利要求1所述近距适形内照射支架，其特征在于：其中所述局部加强放射性同位素高分子医用薄膜由医用聚碳酸酯热塑性聚氨酯或SILBIONE医用硅橡胶制造。

5.根据权利要求1所述的新型近距适形内照射支架，其特征在于：其中所述局部加强放射性同位素高分子医用薄膜中的放射性同位素由液态或固态的125I构成。

6.根据权利要求1所述的新型近距适形内照射支架，其特征在于：其中第一薄膜层具有至少两个不连续分布的第一薄膜分布区域包覆于支架载体外侧。

7.根据权利要求1所述的新型近距适形内照射支架，其特征在于：其中第二薄膜层具有至少两个不连续分布的第二薄膜分布区域包覆于第二薄膜层外侧。

8.根据权利要求8所述的新型近距适形内照射支架，其特征在于：所述至少两个不连续分布的第二薄膜分布区域分布于相同或不同的所述第一薄膜分布区域。

9.一种如所述权利要求1-9任一一种所述的近距适形内照射支架的制作方法，其特征在于：制造步骤如下，

S1：制造支架载体；

S2：制造医用薄膜；

S3：将医用薄膜覆盖于支架载体上；

S4：检查检测，待检查检测后封装入库。