[发明专利]一种印刷制备大面积图案化有机发光薄膜的方法

权利要求书

1.一种印刷制备大面积图案化有机发光薄膜的方法，其特征在于采用喷墨打印技术印刷制备大面积图案化有机小分子发光薄膜，该方法包含双溶剂体系抑制墨水边缘流动、衬底表面张力控制小分子发光材料分布和墨水干燥调控抑制小分子发光材料团聚的步骤，具体如下：

S101、采用双溶剂调控墨水表面张力与挥发速率，将一种有机小分子发光材料墨水化；

S102、将所述墨水装于喷墨打印机的墨盒中，经喷墨打印机在衬底上进行图案化；

S103、以玻璃为衬底，经过表面处理得到下述四种中任意一种衬底表面：氧化铟锡表面、氧等离子体处理的氧化铟锡表面、聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸) PEDOT-PSS表面和氧等离子体处理的聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸) PEDOT-PSS表面；

S104、烘烤图案化的有机小分子薄膜，采用100 °C~200°C的退火温度，在衬底表面上获得大面积图案化的均匀有机小分子发光薄膜；

所述的双溶剂体系抑制墨水边缘流动，包含互补性的两种溶剂与溶质组合而成；所述的双溶剂体系由以下组分组成：作为第一溶剂的低沸点低粘度有机溶剂、作为第二溶剂的高沸点高粘度有机溶剂、作为溶质的有机发光小分子材料；

取50份体积的两亲性共轭分子材料PFP-3作为溶质，取10份体积的环己酮作为第一溶剂；取1份体积的甲基吡咯烷硐、苯基环己烷或二氯甲苯作为第二溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种印刷制备大面积图案化有机发光薄膜的方法，其特征在于，所述的衬底表面处理控制小分子发光材料分布，包括以下过程：衬底表面氟化处理、衬底表面氧等离子体处理、衬底表面电极层修饰以及电极层表面氧等离子体处理。

3.一种如权利要求1所述的方法制备的大面积图案化有机发光薄膜的应用，其特征在于该大面积图案化有机小分子发光薄膜作为功能层应用于有机电致发光器件、有机太阳能电池器件、有机场效应晶体管器件或柔性储能器件。