[发明专利]匀流件和工艺腔室

权利要求书

1.一种匀流件，其特征在于，包括本体；

所述本体沿进气方向依次设置有至少两级匀流腔，且至少两级所述匀流腔的容积依次增大；

相邻两级所述匀流腔之间相互连通，最后一级所述匀流腔用于与工艺腔室连通，以将经过至少两级所述匀流腔匀流后的工艺气体引入至所述工艺腔室中；

所述本体呈环状，所述本体沿进气方向依次环绕设置有至少两级容纳槽，所述容纳槽的开口沿所述本体径向向外开设，所述容纳槽内的空间形成所述匀流腔。

2.根据权利要求1所述的匀流件，其特征在于，沿所述进气方向，所述容纳槽的深度和/或所述容纳槽的横截面积依次增大。

3.根据权利要求2所述的匀流件，其特征在于，相邻两级所述容纳槽之间通过匀流通道连通，所述匀流通道贯穿二者的相邻侧壁。

4.根据权利要求3所述的匀流件，其特征在于，所述本体沿径向向中心方向凹陷形成所述匀流通道。

5.根据权利要求4所述的匀流件，其特征在于，所述本体沿进气方向间隔设置三级所述匀流腔；

所述匀流通道包括多个第一匀流通道和多个第二匀流通道，多个所述第一匀流通道和多个所述第二匀流通道分别沿所述本体的周向均匀设置；

所述第一匀流通道连通第一级匀流腔和第二级匀流腔，所述第二匀流通道连通所述第二级匀流腔和第三级匀流腔。

6.根据权利要求5所述的匀流件，其特征在于，所述本体上设有多个沿周向均匀分布的匀流孔，所述匀流孔用于连通所述第三级匀流腔和所述工艺腔室。

7.根据权利要求5所述的匀流件，其特征在于，任意一个所述第一匀流通道的位置与任意一个所述第二匀流通道的位置均不重合。

8.一种工艺腔室，其特征在于，包括权利要求1至7任意一项所述的匀流件。

9.根据权利要求8所述的工艺腔室，其特征在于，还包括与所述匀流件连通的转接件，所述转接件上设置有进气孔，所述进气孔与第一级匀流腔连通，所述进气孔的横截面积大于所述第一级匀流腔的横截面积。