[发明专利]用于激光照明的复相陶瓷阵列、制备方法及光源装置

权利要求书

1.用于激光照明的复相陶瓷阵列，其特征在于，所述复相陶瓷阵列由陈列分布的复相陶瓷单元组成，所述复相陶瓷单元从下述选项中至少任意选取两种：黄光复相陶瓷单元、红光复相陶瓷单元、绿光复相陶瓷单元。

2.根据权利要求1所述的用于激光照明的复相陶瓷阵列，其特征在于，所述黄光复相陶瓷单元至少具有第一相及第二相，其中，所述第一相为Ce³⁺掺杂的YAG（Y₃Al₅O₁₂）或GYGAG（(Gd,Y)₃(Al,Ga)₅O₁₂），所述第二相为Al₂O₃；进一步地，所述黄光复相陶瓷单元中，所述第一相占单元总质量比的20-90%。

3.根据权利要求1所述的用于激光照明的复相陶瓷阵列，其特征在于，所述红光复相陶瓷单元至少具有第一相及第二相，其中，所述第一相为Eu³⁺掺杂的YAG或GYGAG或LuAG（Lu₃Al₅O₁₂），所述第二相为Al₂O₃；进一步地，所述红光复相陶瓷单元中，所述第一相占单元总质量的20-90%。

4.根据权利要求1所述的用于激光照明的复相陶瓷阵列，其特征在于，所述绿光复相陶瓷单元至少具有第一相及第二相，其中，所述第一相为Ce³⁺掺杂LuAG（Lu₃Al₅O₁₂）或Mn²⁺掺杂的AlON，所述第二相为Al₂O₃；进一步地，所述绿光复相陶瓷单元中，所述第一相占单元总质量的20-90%。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的用于激光照明的复相陶瓷阵列，其特征在于，所述复相陶瓷阵列的上表面镀有增透膜层，所述复相陶瓷阵列的下表面镀有全反膜层。

6.用于激光照明的复相陶瓷阵列的制备方法，用以制备权利要求1至5中任意一项中复相陶瓷阵列，其特征在于，包含有以下步骤，

步骤S1，制备复相陶瓷单元；

步骤S2，陈列复相陶瓷单元：

步骤S21，堆叠：相邻两个复相陶瓷单元间的竖截面紧密靠在一起；

步骤S22，真空包装；以及，

步骤S23，冷等静压：压强为150-250MPa，保压时间为2-10分钟；

步骤S3，烧结：

步骤S31，素烧：去除有机物，烧结温度为600-1000℃，烧结保温时间4-10h；以及，

步骤S32，真空烧结：烧结温度为1700-1850℃，烧结保温时间5-15h；以及，

步骤S4，退火，得到所述复相陶瓷阵列：退火温度为1400-1550℃，烧结保温时间10-30h。

7.根据权利要求6所述的用于激光照明的复相陶瓷阵列的制备方法，其特征在于，步骤S1中，包含有，

步骤S11，提供荧光原料；

步骤S12，球磨荧光原料：置于球磨罐中，球磨5-20h，球磨转速150-350r/min，其中，球磨介质为氧化铝磨球，氧化铝磨球直径为1-5mm，无水乙醇作为溶剂；

步骤S13，烘干过筛荧光原料；

步骤S14，烧结荧光原料：烧结温度为1400-1500℃，烧结保温时间1-10h；

步骤S15，球磨荧光原料与Al₂O₃粉体的混合料：所述荧光原料与Al₂O₃粉体按照一定的质量比（荧光原料/总粉体=20%-90%）进行混合后球磨，球磨5-20h，球磨转速150-350r/min，其中，球磨介质为氧化铝磨球，氧化铝磨球直径为1-5mm，无水乙醇作为溶剂；

步骤S17，烘干过筛荧光原料与Al₂O₃粉体的混合料；以及，

步骤S16，模具成型，得到所述复相陶瓷单元。