[发明专利]一种单面抛光机大盘的修盘方法有效
申请号: | 201711290242.9 | 申请日: | 2017-12-07 |
公开(公告)号: | CN109894975B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 林霖;史训达;刘云霞;吴迪;杨少坤;李奇 | 申请(专利权)人: | 有研半导体材料有限公司 |
主分类号: | B24B53/00 | 分类号: | B24B53/00 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘秀青 |
地址: | 101300 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单面 抛光机 大盘 方法 | ||
1.一种单面抛光机大盘的修盘方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将磨砂和水按照磨砂:水=1:(3~20)的体积百分比,在浆料桶中混合搅拌,待磨砂液搅拌均匀后,按照悬浮剂:磨砂液=1:(20~60)的体积比加入悬浮剂,搅拌均匀;
(2)将两个圆形铸铁磨盘置于抛光机大盘上,并通过两个连接杆连接到固定支撑架上,铸铁磨盘绕着连接杆旋转;将抛光机大盘转速设置为20~50 rpm,将浆料桶中的磨砂液均匀输送到抛光机大盘表面;研磨1~12小时后停止研磨,停机检查大盘直径方向的平整度,若不够平整,则继续研磨,直到大盘直径方向磨平为止;
(3)卸下两个圆形铸铁磨盘和固定支撑架,将两个齿轮型铸铁修整工具置于抛光机大盘上,并将压力头分别套入两个齿轮型铸铁修整工具的内径,两个铸铁修整工具在抛光机大盘上呈对称放置;将压力头的下压强度调整到50~300g/cm²,抛光机大盘转速设置为20~50 rpm,压力头转速设置为20~50RPM,将浆料桶中的磨砂液均匀输送到抛光机大盘表面;研磨1~12小时后停止研磨,停机检查大盘半径方向的平整度,若不够平整,则继续研磨,直到大盘半径方向磨平为止。
2.根据权利要求1所述的单面抛光机大盘的修盘方法,其特征在于,所述磨砂选用粒径在10~100μm的碳化硅或三氧化二铝材质的磨砂。
3.根据权利要求1所述的单面抛光机大盘的修盘方法,其特征在于,所述铸铁磨盘直径为650~750mm,厚度为5~20cm。
4.根据权利要求1所述的单面抛光机大盘的修盘方法,其特征在于,所述齿轮型铸铁修整工具的内径与压力头直径相同,所述齿轮型铸铁修整工具的外径为φ600~650mm。
5.根据权利要求1所述的单面抛光机大盘的修盘方法,其特征在于,所述压力头的旋转方向与大盘旋转方向相同或相反。
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