[发明专利]一种金属表面纳米孔阵列薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种金属表面纳米孔阵列薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

S1)将金属进行预处理，得到预处理后的金属；所述金属为不锈钢；

S2)采用双电极体系，以所述预处理后的金属为阳极，恒压进行阳极氧化处理，得到处理后的金属；所述阳极氧化处理的电解液为有机电解液；所述有机电解液包括氟化铵、水与乙二醇；所述氟化铵的浓度为0.1～0.3mol/L；所述水的浓度为0～0.05mol/L；

S3)将所述处理后的金属进行退火处理，得到表面设置有纳米孔阵列薄膜的金属；所述退火处理在保护气氛中进行；所述退火处理的温度为300℃～400℃；所述退火处理的保温时间为30～60min；

所述步骤S1)中的预处理为清洗与抛光处理；

所述抛光处理按照以下步骤进行：

将清洗后的金属在抛光液中进行电化学抛光；所述抛光液为磷酸与硫酸的混合液；所述电化学抛光的电流密度为30～50A/dm²；所述电化学抛光的时间为2.5～4min；

所述阳极氧化处理的氧化电压为30～90V；

所述阳极氧化处理的温度为0℃～40℃；所述阳极氧化处理的时间为15s～120min；

所述退火处理的升温速度与降温速度各自独立地为1～10℃/min。