[发明专利]光处理装置和基板处理装置

权利要求书

1.一种光处理装置，其特征在于，该光处理装置包括：

壳体，其形成进行基板的输入输出的输入输出口；

载置台，其设置于所述壳体内，并用于载置基板；

光照射单元，其设置于所述载置台的上方，该光照射单元使光源部发光而形成在比基板的左右方向的宽度宽的区域内延伸的带状的照射区域；

移动机构，其使所述载置台和光照射单元沿着前后方向彼此相对地移动；

光路变更部，其用于使从所述光照射单元照射的光偏离基板的相对的移动区域；以及

控制部，其输出控制信号，以便在所述基板不以由光的照射进行的处理为目的而在光照射单元的下方侧相对地移动时，在使所述光源部发光了的状态下，利用所述光路变更部在基板的表面不形成照射区域，

其中，所述光路变更部是遮蔽被形成于所述光照射单元的底部的光的照射口的遮蔽机构，

所述遮蔽机构在遮蔽了所述光的照射口时反射光而使到达光源部的反射光的照度是不给所述光源部带来不良影响的照度。

2.根据权利要求1所述的光处理装置，其特征在于，

所述遮蔽机构在所述遮蔽机构中的被光源部的光所照射的照射面设置有凹凸。

3.根据权利要求1所述的光处理装置，其特征在于，

所述遮蔽机构在所述遮蔽机构中的被光源部的光所照射的照射面设置有防反射膜。

4.根据权利要求1所述的光处理装置，其特征在于，

所述遮蔽机构的光源部的光照射的照射面以反射光向与光源部的方向不同的角度反射的方式倾斜。

5.根据权利要求1所述的光处理装置，其特征在于，

所述光路变更部是使所述光源部绕水平轴线转动的转动部。

6.根据权利要求1所述的光处理装置，其特征在于，

所述光路变更部是能够使从所述光源部照射的光的光路在穿过狭缝的方向与偏离该狭缝的方向之间切换的镜构件。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光处理装置，其特征在于，

所述载置台构成为在经由所述输入输出口向所述壳体内交接基板的交接位置与基板待机的待机位置之间移动自由，

所述光照射单元设置于所述载置台的移动区域的交接位置与待机位置之间的上方，

载置台在所述交接位置与所述待机位置之间移动时包括从光照射单元向基板照射光的步骤和所述基板不以由光的照射进行的处理为目的而在光照射单元的下方侧移动的步骤。

8.根据权利要求1～6中任一项所述的光处理装置，其特征在于，

该光处理装置是在使用图案掩模来对形成有抗蚀剂膜的基板进行了图案曝光之后对图案曝光区域进行曝光的装置。

9.根据权利要求1～6中任一项所述的光处理装置，其特征在于，

所述光源部是LED。

10.一种基板处理装置，其是对形成有抗蚀剂膜的基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具备权利要求1～9中任一项所述的光处理装置。