[发明专利]一种铟的提纯方法有效

专利信息
申请号: 201711305879.0 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN107881347B 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 文崇斌;朱刘;胡智向;何志达 申请(专利权)人: 先导薄膜材料有限公司
主分类号: C22B9/00 分类号: C22B9/00;C22B58/00;C30B15/00;C30B29/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵青朵
地址: 230012 安徽省合肥市新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 提纯 方法
【说明书】:

发明提供了一种铟的提纯方法,包括以下步骤:以6N~7N的高纯铟作为籽晶,将待提纯液态5N铟以2~10℃/min升温至170~175℃,保温生长2~5h后以8~15r/min旋转下降,旋转下降4~6min后,再以1~5mm/min下降出加热体区域,得到6N铟。本发明在上述工艺下提纯得到的6N铟中Sn、Cd和Pb均小于0.1ppm。实验结果表明:5N铟提纯后得到的6N铟中Cd含量为0.016~0.022ppm,Pb含量为0.017~0.020ppm,Sn含量为0.023~0.028ppm。

技术领域

本发明涉及提纯技术领域,尤其涉及一种铟的提纯方法。

背景技术

铟具有十分独特而优良的物理和化学性能,广泛应用于电子计算机、能源、电子、光电、国防军事、航天航空、核工业和现代信息产业等高科技领域,在国民经济中的作用日趋重要。

金属材料纯度的提高,可使其化学、电学、光磁性、力学性能得到增强,随着光电学、航空航天、原子能等领域高新行业的发展,对高纯材料纯度的要求也越来越高。由于微量杂质的引入就会严重影响材料本身性能,因此铟的纯度是决定材料性能的重要因素。电子行业和半导体行业对铟纯度的要求极高,要求其纯度必须达到6N以上。

目前铟的提纯有以下几种方法:真空蒸溜法、电解精炼法、定向凝固法、旋转提拉法、区域熔炼法等,这些方法都很难达到6N,即使达到,有一些难去除杂质,如Sn、Cd、Pb,很难去除到0.1ppm以下。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种铟的提纯方法,该方法提纯得到的铟中Sn、Cd和Pb均小于0.1ppm。

本发明提供了一种铟的提纯方法,包括以下步骤:

以6N~7N的高纯铟作为籽晶,将待提纯液态5N铟以2~10℃/min升温至170~175℃,保温生长2~5h后以8~15r/min旋转下降,旋转下降4~6min后,再以1~5mm/min下降出加热体区域,得到6N铟。

优选地,铟的提纯在坩埚中进行,所述坩埚包括籽晶区和与籽晶区连接的提纯区;

所述6N~7N的高纯铟置于籽晶区中,待提纯液态5N铟置于提纯区。

优选地,坩埚置于旋转支撑台上进行旋转下降。

优选地,所述提纯区以加热体进行加热;所述加热体选自加热炉。

优选地,下降出加热体区域后,将坩埚移出冷却,整体取出物料,从上部切掉物料的1/6~1/5,剩余物料熔化,铸锭,得到6N铟。

优选地,所述待提纯液态5N铟中Cd含量为0.45~0.55ppm,Pb含量为1~1.3ppm,Sn含量为1.3~1.9ppm。。

本发明提供了一种铟的提纯方法,包括以下步骤:以6N~7N的高纯铟作为籽晶,将待提纯液态5N铟以2~10℃/min升温至170~175℃,保温生长2~5h后以8~15r/min旋转下降,旋转下降4~6min后,再以1~5mm/min下降出加热体区域,得到6N铟。本发明在上述工艺下提纯得到的6N铟中Sn、Cd和Pb均小于0.1ppm。实验结果表明:5N铟提纯后得到的6N铟中Cd含量为0.016~0.022ppm,Pb含量为0.017~0.020ppm,Sn含量为0.023~0.028ppm。

附图说明

图1为本发明提供的铟提纯方法采用的装置示意图。

具体实施方式

本发明提供了一种铟的提纯方法,包括以下步骤:

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