[发明专利]一种光触媒型陶瓷抛光液在审
申请号: | 201711307797.X | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN108003794A | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 谢义鹏;许钧强;康伦国;姚东生 | 申请(专利权)人: | 合众(佛山)化工有限公司;韶关市合众化工有限公司 |
主分类号: | C09G1/04 | 分类号: | C09G1/04;B01D53/86;B01D53/00;B01D53/72;B01D53/58;B01D53/46 |
代理公司: | 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司 44340 | 代理人: | 李秀娟 |
地址: | 528000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 触媒 陶瓷 抛光 | ||
本发明涉及一种光触媒型陶瓷抛光液,主要成分有核壳结构的抗菌纳米TiO
技术领域
本发明涉及一种抛光液,尤其涉及到一种光触媒型陶瓷抛光液,属于陶瓷材料技术领域。
技术背景
有机/无机纳米复合微球受到越来越多的重视,这是因为它兼具有机材料的可塑性、易加工性、轻量化和无机材料的刚性、耐热性、耐磨性、耐化学腐蚀性、易改性以及各种功能特性,如磁性,导电性等。作为有机/无机复合材料的一种,具有核壳结构的聚合物/二氧化硅纳米复合微球已经被广泛地应用于生物医学、催化、电子器件以及胶体界面研究领域。
陶瓷地板砖釉面有许多小的凹凸不平现象,造成陶瓷砖釉面的粗糙度大,但是实际实用中要求陶瓷地板砖釉面的光泽度很高(90以上)。通过机械化学抛光的原理对陶瓷地板砖釉面进行抛光加工可达到所需光泽度要求。机械化学抛光利用机械摩擦和化学分解双重作用,如磨轮和抛光液相结合对陶瓷地板砖釉面进行研磨抛光,从而使釉面的光泽度达到90以上。
中国专利CN103484026A公开了一种高效陶瓷抛光液,其有效成份包括粒径为3~300nm的纳米硅溶胶,络合剂及表面活性剂,pH调节剂,其中抛光液的pH=3.0~9.0,硅溶胶粒度分布呈非高斯分布,(D100-D80)/(D100-D0)<0.15;其制备过程是先将粒径为纳米硅溶胶颗粒悬浮在水中,再加入络合剂,表面活性剂到悬浮液中,最后将悬浮液的pH值调整到3.0~9.0。该陶瓷抛光液对氧化锆陶瓷抛光可以避免氧化锆陶瓷表面出现波纹以及微小斑点。
市场现在存在的抛光砖、抛釉砖在使用一定时间后会出现细菌滋生和发霉现象。目前陶瓷生产厂家采取在釉料里添加银离子或氧化锌材料作杀菌剂,存在价格昂贵、细菌杀死率低的特点;家庭、商场采用杀菌剂作定期杀菌处理,存在操作繁琐,抗菌持久性差的特点;同时,部分抛光液生产厂家采用在抛光液中添加杀菌剂,也存在杀菌剂游离、杀菌时效短的缺点。
CNCN103524118A公开了一种银基η-Al
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