[发明专利]一种应用于半导体发光器件的单偏振光纤微透镜制作方法有效
申请号: | 201711310576.8 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN107991737B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 高亚明;庞璐;王东波;韩志辉;赵国晓;李瑞辰;于陶然;罗瑞芳;梁小红 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
主分类号: | G02B6/25 | 分类号: | G02B6/25;G02B6/42 |
代理公司: | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人: | 王凤英 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 半导体 发光 器件 偏振光 纤微 透镜 制作方法 | ||
1.一种应用于半导体发光器件的单偏振光纤微透镜制作方法,其特征在于,所述单偏振光纤微透镜为非几何全方位对称的结构,用于与半导体发光器件进行光学对轴耦合,实现主偏振光能量耦合;非几何全方位对称的单偏振光纤微透镜光学结构分为三种:①慢轴平行形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件X轴主偏振光方向进行对轴耦合;②慢轴垂直形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件Y轴主偏振光方向进行对轴耦合;③慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件任意θ角度主偏振光方向进行对轴耦合;所述慢轴平行形单偏振光纤微透镜、慢轴垂直形单偏振光纤微透镜及慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜在与半导体发光器件进行对轴耦合之前,分别对单偏振光纤的端面进行研磨;
所述的慢轴平行形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件X轴主偏振光方向进行对轴耦合有以下步骤:
步骤一、首先进行单偏振光纤的光学慢轴定轴,再将单偏振光纤固定在研磨夹具上,旋转研磨夹具,使得慢轴平行形单偏振光纤光学慢轴线(8)与研磨机的研磨平面平行;
步骤二、沿垂直于研磨平面的方向调节单偏振光纤的中轴线与研磨盘呈设计角度:90°-ψ/2°,其中ψ为微透镜的楔角(9);
步骤三、然后沿单偏振光纤的慢轴进行研磨,待研磨量达到设计要求后,翻转研磨夹具180°,对单偏振光纤的另一面进行对称研磨;
步骤四、将研磨好的单偏振光纤微透镜进行去胶处理后,最终制成慢轴平行形单偏振光纤微透镜,其双平面呈轴对称结构;
慢轴平行形单偏振光纤微透镜的端头边缘线(7)与慢轴平行形单偏振光纤微透镜光学慢轴线(8)处于平行的位置,对轴耦合时,慢轴平行形单偏振光纤微透镜光学慢轴线(8)与半导体发光器件光场的X方向主偏振光轴线(5)相平行,其端头边缘线(7)与半导体发光器件光场的X方向线(6)平行并耦合;
所述的慢轴垂直形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件Y轴主偏振光方向进行对轴耦合有以下步骤:
步骤一、首先进行单偏振光纤的光学慢轴定轴,再将单偏振光纤固定在研磨夹具上,旋转研磨夹具,使得慢轴垂直形单偏振光纤光学慢轴线(11)与研磨机的研磨平面垂直;
步骤二、沿垂直于研磨平面的方向调节单偏振光纤的中轴线与研磨盘呈设计角度:90°-ψ/2°,其中ψ为微透镜的楔角(9);
步骤三、然后沿垂直于单偏振光纤的慢轴进行研磨,待研磨量达到设计要求后,翻转研磨夹具180°,对单偏振光纤的另一面进行对称研磨;
步骤四、将研磨好的单偏振光纤微透镜进行去胶处理后,最终制成慢轴垂直形单偏振光纤微透镜,其双平面呈轴对称结构;
慢轴垂直形单偏振光纤微透镜光学慢轴线(11)与其端头边缘线(7)处于垂直的位置,与半导体发光器件进行对轴耦合时,慢轴垂直形单偏振光纤微透镜光学慢轴线(11)与半导体发光器件光场的Y方向主偏振光轴线(10)相平行,其端头边缘线(7)与半导体发光器件光场的X方向线(6)平行并耦合;
所述的慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜,其慢轴沿半导体发光器件任意θ角度主偏振光方向进行对轴耦合有以下步骤:
步骤一、首先进行单偏振光纤的光学慢轴定轴,再将单偏振光纤固定在研磨夹具上,旋转研磨夹具,使得单偏振光纤微透镜光学慢轴线(14)与其端头边缘线(7)构成单偏振光纤微透镜的光学慢轴偏振角θ(15),其端头边缘线(7)与研磨机的研磨平面平行;
步骤二、沿垂直于研磨平面的方向调节单偏振光纤的中轴线与研磨盘呈设计角度:90°-ψ/2°,其中ψ为微透镜的楔角(9);
步骤三、然后研磨单偏振光纤,待研磨量达到设计要求后,翻转研磨夹具180°,对单偏振光纤的另一面进行对称研磨;
步骤四、将研磨好的单偏振光纤微透镜进行去胶处理后,最终制成慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜,其双平面呈轴对称结构;
慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜光学慢轴线(14)与半导体发光器件光场Φ角度主偏振光轴线(12)相平行,慢轴θ角度形单偏振光纤微透镜的光学慢轴偏振角θ(15)与半导体发光器件光场的主偏振光角Φ(13)角度相等;其端头边缘线(7)与半导体发光器件光场的X轴方向线(6)平行并耦合。
2.如权利要求1所述的一种应用于半导体发光器件的单偏振光纤微透镜制作方法,其特征在于,在所述单偏振光纤微透镜的透镜部分生长一层增透膜。
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