[发明专利]一种闪烁陶瓷阵列及其制备方法在审
| 申请号： | 201711314397.1 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108107463A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 江亚林;秦海明;王新佳 | 申请（专利权）人： | 宁波虔东科浩光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/00 | 分类号： | G01T1/00 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人： | 吴伟文 |
| 地址： | 315000 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 晶粒 陶瓷阵列 反射层 闪烁 制备 环氧树脂 闪烁体阵列 机械加工 陶瓷晶粒 阵列结构 耦合模具 光输出 金属类 粘结剂 粘合 顶面 灌入 排布 切割 侧面 | ||
1.一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述闪烁陶瓷阵列中单个晶粒的侧面镀有金属类反射层，顶面镀有环氧树脂反射层。
2.根据权利要求1所述的一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述陶瓷材料为石榴石结构，其结构式可表述为：(AB)
A为发光稀土元素，可以为Ce、Pr、Nd、Eu、Tb、Er、Dy、Tm、Ho或其组合；
B可以为Sc、Y、Gd、Yb、Lu或其组合；
C可以为Al、Ga或Al和Ga的组合。
3.根据权利要求1所述的一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述单个晶粒顶面的环氧树脂反射层的厚度为0.1～2mm。
4.根据权利要求1所述的一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述单个晶粒侧面的金属类反射层，其金属可以为以下材料的一种：Ag、Al、Mo、Pt、Pd、Os、Ir、Ru、Rh。
5.根据权利要求4所述的一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述金属类反射层的喷镀方法可以为化学沉积法、化学镀、磁控溅射法或喷射电镀法。
6.根据权利要求4所述的一种闪烁陶瓷阵列，其特征在于，所述金属类反射层的表面添加防氧化剂。
7.一种闪烁陶瓷阵列的制备方法，其特征在于如下步骤：
(1)通过机械加工方法将陶瓷材料切割成单个长方体的晶粒；
(2)在切割好的单个晶粒的四个侧面镀上金属类反射层；
(3)在切割好的单个晶粒的顶面镀上环氧树脂反射层；
(4)将喷镀好反射层的晶粒分别利用组合筛选版排布为阵列结构；
(5)在每个晶粒之间灌入粘结剂，将晶粒粘合固化成所需的闪烁陶瓷阵列。
8.根据权利要求7所述的一种闪烁陶瓷阵列的制备方法，其特征在于，所述晶粒通过定位耦合模具排布为阵列结构。
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