[发明专利]一种石墨烯场效应晶体管量子点光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711316001.7 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN108198897B 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 郑加金;王雅茹;余柯涵;韦玮;胡二涛 申请(专利权)人: 南京邮电大学;南京邮电大学南通研究院有限公司
主分类号: H01L31/113 分类号: H01L31/113;H01L31/028;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 226000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 场效应 晶体管 量子 光电 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯场效应晶体管量子点光电探测器,其特征在于,该光电探测器为多层薄膜结构,包括Si衬底层、第一绝缘层、第二绝缘层、石墨烯沟道层、量子点光敏介质层以及源极与漏极;所述Si衬底层、第一绝缘层、第二绝缘层、石墨烯沟道层和量子点光敏介质层从下至上依次层叠的;所述源极与漏极分别位于量子点光敏介质层左右两侧,其中,所述Si衬底层为重掺杂P型Si或N型Si基片;所述的第一绝缘层为SiO2薄膜;所述第二绝缘层为AlN薄膜;所述量子点光敏介质层材料为钙钛矿;所述源极与漏极的电极材料为同一种金属,所述第一绝缘层厚度为200-300 nm;所述第二绝缘层厚度为50-70 nm;所述的石墨烯沟道层为单层或多层石墨烯薄膜,层数为1-6层,厚度为0.33-1.98 nm;所述量子点光敏介质层厚度为30-60 nm,量子点粒径为10-30 nm;所述的源极与漏极厚度均为180-220 nm,源极与漏极之间的沟道宽度为10-60 μm,所述金属为Al、Cu、Au或Pt。

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