[发明专利]一种散尾葵的栽培基质及其栽培方法

权利要求书

1.一种散尾葵的栽培基质，其特征在于：按重量份数计，所述栽培基质包括以下组分：木屑20～30份，黄壤土20～30份，蛭石10～20份，椰糠10～15份，牛粪10～30份，草木灰10～20份，沼渣5～10份。

2.根据权利要求1所述的一种散尾葵的栽培基质，其特征在于：按重量份数计，所述栽培基质包括以下组分：木屑25份，黄壤土26份，蛭石18份，椰糠12份，牛粪20份，草木灰16份，沼渣8份。

3.根据权利要求1或2所述的一种散尾葵的栽培基质，其特征在于：所述木屑是通过以下方法预处理后获得的：将堆置在一起且含水量达80％以上的木屑用塑料膜密闭后，在气温达30℃以上的太阳光下暴晒10-15天，所述木屑的粒径为0.2-0.4cm。

4.一种散尾葵的栽培方法，其特征在于：所述栽培方法包括：

(1)选择自然遮荫度在40-50％之间、光照为漫射光和/或散射光且光照强度在2000-5000lux之间的环境下进行散尾葵栽培；

(2)将定植用的散尾葵苗栽植入栽培基质中，栽植方法为：在栽培基质上划浅穴，将散尾葵苗的根部插入浅穴中后，用栽培基质盖住散尾葵苗的根部，之后浇定根水；控制空气湿度在70-80％之间，温度在15-30℃之间；

(3)栽植后观察栽培基质表面，当栽培基质表面变白时需喷雾浇水。

5.根据权利要求4所述的一种散尾葵的栽培方法，其特征在于：步骤(1)所述自然遮荫度在45-50％之间，光照强度在2500-3500lux之间。

6.根据权利要求4所述的一种散尾葵的栽培方法，其特征在于：步骤(2)栽植时按照3-7cm×5-9cm的株行距将散尾葵苗栽种入栽培基质中，散尾葵苗的根部插入浅穴的深度为1-3cm。