[发明专利]显示基板及制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

柔性衬底；

支撑层，所述支撑层设置在所述柔性衬底上；以及

多条电极线，所述多条电极线设置在所述支撑层远离所述柔性衬底的一侧，

其中，所述支撑层不被所述电极线覆盖的区域具有镂空部，

所述柔性衬底是由聚二甲基硅氧烷形成的，所述支撑层是由聚酰亚胺形成的，且所述支撑层的厚度不大于5μm。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述柔性衬底的模量小于所述支撑层的模量。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，进一步包括：

多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与所述电极线相连，所述柔性衬底与所述薄膜晶体管对应的区域的断裂伸长率小于所述柔性衬底其余区域的断裂伸长率。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，与所述薄膜晶体管对应区域的所述柔性衬底，是经过紫外改质处理的。

5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的显示基板。

6.一种制备显示基板的方法，其特征在于，包括：

在具有多条电极线的支撑层上形成镂空部，并在所述支撑层远离所述电极线的一侧，设置柔性衬底，其中，所述镂空部设置在所述支撑层不被所述电极线覆盖的区域，

所述柔性衬底是由聚二甲基硅氧烷形成的，所述支撑层是由聚酰亚胺形成的，且所述支撑层的厚度不大于5μm。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述显示基板进一步包括多个薄膜晶体管，对与所述薄膜晶体管对应区域的所述柔性衬底进行紫外改质处理，以便使所述柔性衬底与所述薄膜晶体管对应区域的断裂伸长率小于所述柔性衬底其余区域的断裂伸长率。