[发明专利]开环异落叶松树脂酚二葡糖苷的制备在审
申请号: | 201711326022.7 | 申请日: | 2014-06-10 |
公开(公告)号: | CN107955046A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | M·克里斯托菲多-索罗米多;K·C·尼科拉乌;R·A·瓦利乌林;N·西蒙斯;P·M·埃雷奇 | 申请(专利权)人: | 宾夕法尼亚大学理事会;斯克利普斯研究所 |
主分类号: | C07H15/18 | 分类号: | C07H15/18;C07H1/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 张晓威 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 开环 落叶松 树脂 葡糖 制备 | ||
本申请是2014年6月10日提交的、发明名称为“(S,S)-开环异落叶松树脂酚二葡糖苷 和(R,R)-开环异落叶松树脂酚二葡糖苷的制备”的中国专利申请201480041131.2的分案申 请。
技术领域
本发明涉及制备(S,S)-开环异落叶松树脂酚二葡糖苷和(R,R)-开环异落叶 松树脂酚二葡糖苷的方法,以及包含其的组合物。
背景技术
电离辐射对活的生物体产生许多有害作用。人在诊断性和治疗性放射照相 程序期间当使用电子设备时会曝露于辐射、曝露于来自核事故背景辅射的辐 射,并且在航空航天飞行期间会曝露于辐射。当前全球的发展已经另外建立了 恐怖主义,作为可能使许多人可能曝露于致死量辐射的危险手段。因此,极其 重要的是鉴别可在曝露于辐射之前施用并且作为放射性曝露之后的治疗施用 的放射防护剂。
日益将天然产物和其类似物视作发现和开发放射防护剂的有希望的线索。 已经在植物中检测到开环异落叶松树脂酚的(2R,3R)-对映异构体与(2S,3S)]-对 映异构体以及内消旋开环异落叶松树脂酚,但是仅(2R,3R)-[(-)开环异落叶松树 脂酚]异构体的存在量丰富。虽然这种化合物可从亚麻子中提取得,但是必需 的后续纯化是不寻常且冗长的工艺。因此,需要开发一种较短且对映选择性的 合成以从容易得到的商业材料制备对映体纯的开环异落叶松树脂酚。
发明内容
本发明提供一种制备式((S,S)-SDG-1)((S,S)-开环异落叶松树脂酚二葡糖 苷-1)的化合物的方法
所述方法包括:
(a)使式(6)化合物
与式(7)化合物反应
以制备式((S,S)-S3)化合物
(b)裂解式((S,S)-S3)化合物的苄醚,接着进行分离程序以制备式((S,S)-8) 化合物
以及
(c)对式((S,S)-8)化合物脱除保护以制备式((S,S)-SDG-1)化合物。
本发明提供一种制备式((S,S)-SDG-1)化合物的方法
所述方法包括:
(a)使式(5)化合物
与还原剂反应以制备式(S1)化合物
(b)使式(S1)化合物与苄化剂反应以制备式(S2)化合物
(c)使式(S2)化合物与还原剂反应以制备式(6)化合物;
(d)使式(6)化合物与式(7)化合物反应以制备式((S,S)-S3)化合物;
(e)裂解式((S,S)-S3)化合物的苄醚,接着进行分离程序以制备式((S,S)-8) 化合物;以及
(f)对式((S,S)-8)化合物脱除保护以制备式((S,S)-SDG-1)化合物。
本发明进一步提供一种制备式((S,S)-SDG-1)化合物的方法,所述方法包 括:
(a)使式(S2)化合物与还原剂反应以制备式(6)化合物;
(b)使式(6)化合物与式(7)化合物反应以制备式((S,S)-S3)化合物;
(c)裂解式((S,S)-S3)化合物的苄醚,接着进行分离程序以制备式((S,S)-8) 化合物;以及
(d)对式((S,S)-8)化合物脱除保护以制备式((S,S)-SDG-1)化合物。
本发明提供一种制备式((R,R)-SDG-2)((R,R)-开环异落叶松树脂酚二葡 糖苷-2)的化合物的方法
所述方法包括:
(a)使式(6)化合物与式(7)化合物反应以制备式((R,R)-S4)化合物;
(b)裂解式((R,R)-S4)化合物的苄醚,接着进行分离程序以制备式((R,R)-9) 化合物
以及
(c)对式((R,R)-9)化合物脱除保护以制备式((R,R)-SDG-2)化合物。
本发明进一步提供一种制备式((R,R)-SDG-2)化合物的方法,所述方法包括:
(a)使式(5)化合物与还原剂反应以制备式(S1)化合物;
(b)使式(S1)化合物与苄化剂反应以制备式(S2)化合物;
(c)使式(S2)化合物与还原剂反应以制备式(6)化合物;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宾夕法尼亚大学理事会;斯克利普斯研究所,未经宾夕法尼亚大学理事会;斯克利普斯研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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