[发明专利]线性模块有效
申请号: | 201711329433.1 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN109915484B | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 王彦钧;洪乔村 | 申请(专利权)人: | 上银科技股份有限公司 |
主分类号: | F16C29/04 | 分类号: | F16C29/04;F16C29/08;F16C33/56;F16C35/04 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 线性 模块 | ||
本发明提供一种线性模块,其主要是由底座、滑动平台、两支撑架、两保持单元、以及钢带所组成,通过保持单元的引导部赋予摆动的自由度,当滑动平台在移动时,滚动组件可通过引导部的枢摆更服贴平顺在钢带的接触面上,以降低钢带变形和产生隙缝的情况发生,不仅仅增加钢带的密封性、提高线性模块的顺畅度外,亦具有防尘效果;由此,达到提供自动调整接触角度、避免钢带受力变形、及延长钢带寿命的目的。
技术领域
本发明为一种线性模块,特别是指一种具有保持钢带不变形的线性模块。
背景技术
如图1A所示,显示美国专利第US8650978 B2 号一种“具有防尘机构的线性致动器”的其中一附图;其主要包含滚珠螺杆;滑动台11,啮合于该滚珠螺杆,并根据该滚珠螺杆的线性运动而沿该滚珠螺杆往复地移动;外罩壳构件,供该滚珠螺杆设置,并具有开口,及能够覆盖该开口的钢带12;此设计钢带12是卷绕的安装手段,并通过滚动组件13和外罩壳构件的端部夹持着,达到把钢带12拉紧效果,增加钢带12密封性,但钢带12张力增加后,导致磨耗加剧,反而使钢带12更容易变形。
如图1B所示,显示中国台湾专利第1530627号一种“滑台”的其中一附图;主要是用来安装在一轨道座101上,其中该滑台包含:一滑座102,用来沿着该轨道座101上的一纵向路径滑动,其中该滑座102包含:二端部位于该滑座102沿着该纵向路径的相对两端;一中间部,位于该些端部之间并向上凸起;以及二侧壁,分别位于该中间部的相对两侧边,其中该些侧壁间形成有一沟槽;一上盖103,覆盖该滑座102;至少二个磁性组件104,分别设置在该滑座102的该些端部的顶部;以及一钢带105,穿设过该沟槽并位于该上盖103及该滑座102之间,其中该钢带105对应至该滑座102的该些端部的部分是被该些磁性组件104所吸引,而该钢带105在该滑座102的该中间部的部分向上凸起;通过安装磁性组件104在滑台的滑座102的两端来磁吸该钢带105,以使滑台的滑座102上的该钢带105向上凸起且贴合于滑台顶面,因而达成优良的防尘效果。然而,因单点磁吸容易更使该钢带105下垂的缘故,故容易导致该钢带105有磨痕产生及变形的现象发生。
如图1C所示,显示美国专利第US5074160号一种“进给单元装置”的其中一附图;主要包含滚珠螺杆111,具有形成在外周表面中的螺旋槽;滑块112,通过滚动构件围绕螺旋槽螺纹旋转;导轨113,具有向上开口的轴向延伸的凹槽,通过在滚珠循环路径中滚动的滚动构件引导螺帽在所述凹槽内直线移动;以及端盖114,分别固定到螺帽的轴向相对端并且形成有该滚珠循环路径;此设计利用弹性外盖组115,以及将引导块116与端盖114结合一体,增加钢带117的密封性效果。但是,因弹性外盖组115直接与钢带117贴合接触,容易造成磨耗,使钢带117变形。
发明内容
本发明的目的在于提供一种线性模块,其主要提供自动调整接触角度、避免钢带受力变形、及延长钢带寿命的目的。
为达前述目的,本发明提供一种线性模块,包含:一底座,具有一线性方向、及一容置空间;一滑动平台,能够沿着该线性方向往复位移地组设在该底座,并具有一凸出于该容置空间的滑移部、及两分别设置于该滑移部两侧的承载部,各该承载部皆具有两相对应的一第一端面与一第二端面;两支撑架,分别设置该第一端面与该第二端面,并各具有一压抵部及一枢设部;两保持单元,分别枢设在该两支撑架,并各包括一保持架及二滚动组件,该保持架枢设在该枢设部,并具有一供该压抵部压抵的被压部,各该滚动组件枢设在该保持架,且该滚动组件的滚动方向同于该线性方向;一钢带,覆盖该容置空间与该滑移部,并具有一供各该滚动组件压抵的接触面。
优选地,其中该支撑架与该保持架为一体式热塑型高分子材料(ABS)所构成。
优选地,其中各该保持架皆具有两引导部,该两引导部皆枢接该被压部的两侧,并具有一供各该滚动组件枢设的容设槽。
优选地,其中各该保持单元皆具有两止挡片,各该止挡片具有一设置在该被压部的固设部、及一设置在该引导部且连接该固设部的限位部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上银科技股份有限公司,未经上银科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711329433.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。