[发明专利]减少小麦秸秆还田后稻田甲烷排放的方法

说明书

本发明公开了一种减少小麦秸秆还田后稻田甲烷排放的方法，包括以下步骤：1）将小麦秸秆和水稻基肥浅旋入土，耕深8～10厘米，其中，基肥的施N量为氮肥施用总量的20%；2）水稻移栽后每间隔16行开设一条沟渠，沟宽15‑20厘米、沟深18‑20厘米，同时，在稻田四周开围沟，围沟宽15‑20厘米、深18‑20厘米；3）水稻移栽活棵后在土壤水势为‑7～‑3KPa时灌水，灌水深度为2‑3cm，直到收获前15天为止，水稻生长过程中，追施分蘖肥和穗肥，既处理了小麦秸秆，又实现了水稻高产，同时还减少了稻季温室气体CH4的产生和排放。

技术领域

本发明涉及一种减少小麦秸秆还田后稻田甲烷排放的方法。

背景技术

稻田土壤是是温室气体（CH4）的重要来源之一。我国是世界上第二大水稻种植国家，水稻种植面积占世界种植面积的 27%，使得我国稻田温室气体的排放受到广泛的关注，如何减控温室气体排放及其产生的作用机制在环境、生态和全球气候变化研究领域已经进行了大量的研究。

目前，秸秆焚烧成为污染环境的一大原因，因此，为了避免秸秆焚烧带来的大气环境污染，作物收获后秸秆还田成为最有效的处置手段，但是秸秆还田方式不同对稻田甲烷排放的影响不同。Bossio等对美国加利福尼亚洲秸秆还田后的稻田温室气体排放进行监测，结果表明，秸秆还田下CH4排放通量是秸秆焚烧处理的4.2-5.4倍，而秸秆还田后土壤下降是导致CH4排放量上升的重要原因，Ma等对稻麦轮作体系的秸秆还田CH4排放量进行监测，结果表明稻季麦秸还田相比于不还田能增加CH4排放的3-11倍。

因此，采用何种方式实现秸秆还田后稻田甲烷减排具有重大的意义。

发明内容

本发明提供了一种减少小麦秸秆还田后稻田甲烷排放的方法，既处理了小麦秸秆，又实现水稻高产和减少稻季温室气体 CH4的产生和排放。

为了解决上述问题，本发明所采用的技术方案是这样的，一种减少小麦秸秆还田后稻田甲烷排放的方法，包括以下步骤：

1）将小麦秸秆和水稻基肥浅旋入土，耕深8～10厘米，其中，基肥的施N量为氮肥施用总量的20% w/w；

2）水稻移栽后每间隔16行开设一条沟渠，沟宽15-20厘米、沟深18-20厘米，同时，在稻田四周开围沟，围沟宽15-20厘米、深18-20厘米；

3）水稻移栽活棵后在土壤水势为-7～-3KPa时灌水，灌水深度为2-3cm，直到收获前15天为止，在水稻生长过程中，追施分蘖肥和穗肥，其中分蘖肥的施N量为氮肥施用总量的50%w/w ，穗肥的施N量为氮肥施用总量的30% w/w，氮肥施用总量为 16～18kg/ 亩。

为了在实现水稻减排的同时获得水稻高产，优选地，使用8行25厘米行距插秧机，机插水稻的株行距为11×25 cm，每穴4～5株。

所述的分蘖肥在插秧后5-7天和12-14天分别追施, 亩追氮肥为氮肥施用总量的30%w/w和20%w/w。

所述的穗肥在水稻茎基部第一节间定长追施。

有益效果：

1、本发明将秸秆还田于浅层土壤中，利于秸秆在相对好氧条件下快速腐解，从而减少甲烷产生；

2、本发明采用田间和田四周开沟的方法，能使田间水位快速均匀降低，增加秸秆好氧腐解，减少秸秆厌氧腐解中间产物对水稻生长的影响，进而减少甲烷产生排放、提高水稻产量；

3、本发明采用的水分管理模式和施肥量和方式，在实现水稻高产的前提下，最大程度的实现甲烷的减排。

具体实施方式