[发明专利]减反射玻璃的制备方法

权利要求书

1.一种减反射玻璃制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在玻璃基底表面制备第一高折射率层；

在所述第一高折射率层的表面制备第一低折射率层；

在所述第一低折射率层表面制备第二高折射率层；及

在所述的第二高折射率层的表面制备第二低折射率层；及

在所述的第二低折射率层表面制备薄膜保护层；

所述减反射玻璃的可见光反射率低于5％，透光率大于90％，且面电阻不超过200Ω/□；

所述第一高折射率层的厚度为10nm～40nm；所述第一低折射率层的厚度为10nm～40nm；所述第二低折射率层的厚度为40nm～100nm；

其中，所述第二高折射率层包含防尘层，所述防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种，所述防尘层的厚度为60nm～79nm；或

所述第二高折射率层包含折射率调整层及层叠于所述折射率调整层表面的防尘层，所述防尘层的材料选自ITO、IXO、AZO及ATO中的至少一种，所述折射率调整层的折射率为2.0～2.5，所述防尘层的厚度为20nm～79nm，所述折射率调整层的厚度为40nm～100nm。

2.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一高折射率层的折射率为2.0～2.5，所述第一低折射率层的折射率为1.47～1.53，所述第二低折射率层的折射率为1.47～1.53。

3.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述折射率调整层和所述防尘层的总厚度为80nm～130nm。

4.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一高折射率层的材料选自氮化硅、五氧化二铌及二氧化钛中的至少一种；所述第一低折射率层的材料为二氧化硅；所述第二低折射率层的材料为二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述折射率调整层的材料选自氮化硅、五氧化二铌及二氧化钛中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一高折射率层的厚度为15nm～30nm；所述第一低折射率层的厚度为20nm～30nm；所述第二低折射率层的厚度为50nm～80nm。

7.根据权利要求1所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述保护层的材料选自二氧化锆、氮化硅及碳化硅中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述保护层的厚度为2nm～20nm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层采用离线磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源加旋转阴极制备。

10.根据权利要求9所述的减反射玻璃的制备方法，其特征在于，所述玻璃基底的尺寸为300mm×300mm～3300mm×6000mm。