[发明专利]一种检测平板清洁度和平整度的装置及方法

说明书

本发明涉及检测技术领域，具体涉及一种检测平板清洁度及平整度的装置以及方法，包括图像采集装置、中继镜头、分光棱镜、物镜、物镜外套、电源装置、暗场照明装置、同轴照明装置以及光源控制装置。本发明提供一种能够检测平板玻璃清洁度以及凹凸点的装置，可以准确区分出平板上缺陷类型，适合生产检测中。

技术领域

本发明涉及检测技术领域，具体涉及一种检测平板清洁度及平整度的装置以及方法。

背景技术

在平板制程工艺中，特别是PI膜工艺中，其上的杂质，脏污等如果处理不好会对后道产品的良率会产生重大影响，传统的检测方法不能准确判断脏污的类型，因此不能对前端工艺进行针对性的改良，使得产品的良品率得不到大幅度的提升。

发明内容

在现有的平板玻璃的生产中，特别是PI膜涂布工艺中，产生的表面凹凸点会对后续工序产生致命影响，现有的检测技术很难区分出表面缺陷是凹点、凸点还是灰尘或杂质。本发明提供一种新的检测平板清洁度及平整度的装置以及方法，该检测平板清洁度及平整度的装置具有准确区分出平板上缺陷类型的性能。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种检测平板清洁度及平整度的装置，包括图像采集装置、中继镜头、分光棱镜、物镜、物镜外套、暗场照明装置、同轴照明以及光源控制装置和工控机，其特征在于，所述图像采集装置包括相机与成像系统，所述中继镜头与分光棱镜的A端通过套接管连接在一起，所述分光棱镜的B端与物镜通过物镜外套连接在一起，所述暗场照明装置与物镜外套连接在一起，所述暗场照明装置的外环上至少设置有两个安装孔，每个安装孔内都设置有LED灯，所述同轴照明由同轴照明光源和照明镜组组成，通过分光棱镜耦合进成像光路。

作为进一步的改进，所述中继镜头、分光棱镜、物镜与相机同轴，构成成像光路。

作为进一步的改进，所述同轴照明光源通过照明镜组准直后，通过分光棱镜耦合进成像光路。

作为进一步的改进，所述安装孔均匀的分布在暗场照明装置的外环，LED灯在环内相对于成像光路光轴呈锥形分布。

作为进一步的改进，所述暗场照明装置分为半暗场和全暗场。

作为进一步的改进，所述光源控制装置能够按照时序依次控制同轴照明，全暗场照明和半暗场照明。

一种测平板清洁度及平整度的装置的照明成像方法，包括同轴照明、全暗场照明和半暗场照明，同轴照明、全暗场照明和半暗场照明均是在基板同一位置上通过控制器顺序闪光照明，在控制器顺序闪光的过程中工控机控制图像采集系统同步采图，即实现在同一位置依次采集同轴照明图像，全暗场照明图像和半暗场照明图像。

作为进一步的改进，所述同轴照明的路径为：打开同轴照明光源，使同轴照明光源经过照明镜组和分光棱镜耦合进物镜，经过基板上的被测物体反射后经过物镜、分光棱镜(5)和中继镜头成像到相机上；

所述全暗场照明的路径为：通过全暗场照明控制总开关打开暗场照明装置，全暗场光源经过基片上的被测基板表面缺陷体散射后经过物镜、分光棱镜和中继镜头成像到相机上；

所述半暗场照明的路径为：通过半暗场照明控制开关打开半暗场照明装置，半暗场光源经过基板上的被测基板表面缺陷散射后经过物镜、分光棱镜和中继镜头成像到相机上。

上述三种照明，在基板同一位置上通过控制器顺序闪光照明，在控制器顺序闪光的过程中工控机控制图像采集系统同步采图，即实现在同一位置依次采集同轴照明图像，全暗场照明图像和半暗场照明图像。

一种检测基板清洁度以及其上凹凸点的检查方法，在基板上同一位置处，得到三幅图像：分别为同轴照明、全暗场照明、半暗场照明图像，

脏污：同轴照明图像中表现为暗点或暗线，在全暗场和半暗场照明图像中表现为亮点或亮线；