[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的阵列基板和盖板，设置在所述阵列基板和所述盖板之间的液晶层，以及设置在所述盖板远离所述阵列基板一侧的偏光片；

其中，所述阵列基板包括：

基板；

反射层，所述反射层设置在所述基板靠近所述盖板的表面上；

多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布在所述反射层远离所述基板的表面上，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色；所述反射彩膜层包括：

氧化铝层，所述氧化铝层设置在所述反射层远离所述基板的表面上；

金属等离子体纳米结构，所述金属等离子体纳米结构设置在所述氧化铝层远离所述基板的表面上，所述金属等离子体纳米结构为具有纳米级大小孔洞的金属等离子体薄膜，所述孔洞的直径为100-300nm；

其中，所述预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属等离子体纳米结构为金等离子体纳米结构。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述预定颜色包括红色、绿色和蓝色，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为43-53nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为90-96nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为80-86nm。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述出射的光为红色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为48nm，所述出射的光为绿色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为93nm，所述出射的光为蓝色的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度为83nm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，形成所述反射层的材料包括银、铝和铝钕合金中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括：

电路结构，所述电路结构与所述反射彩膜层同层设置，且位于相邻的反射彩膜层之间；

第一平坦化层，所述第一平坦化层设置在所述多个反射彩膜层和所述电路结构远离所述基板的表面上；

第一电极，所述第一电极设置在所述第一平坦化层远离所述基板的表面上。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述盖板包括：

透明基板；

黑矩阵，所述黑矩阵设置在所述透明基板靠近所述阵列基板的表面上；

第二平坦化层，所述第二平坦化层与所述黑矩阵同层设置；

第二电极，所述第二电极设置在所述黑矩阵和所述第二平坦化层靠近所述阵列基板的表面上。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的显示面板。

9.一种制备显示面板的方法，其特征在于，包括：

形成相对设置的阵列基板和盖板；

将所述阵列基板和所述盖板进行对盒处理；

在所述盖板远离所述阵列基板的表面上形成偏光片；

其中，形成所述阵列基板包括：

在基板靠近所述盖板的表面上形成反射层；

在所述反射层远离所述基板的表面上形成多个反射彩膜层，所述多个反射彩膜层彼此间隔且呈阵列分布，用于使得经所述反射层反射后且经过所述反射彩膜层出射的光具有预定颜色；

其中，所述反射彩膜层包括：

氧化铝层，所述氧化铝层设置在所述反射层远离所述基板的表面上；

金属等离子体纳米结构，所述金属等离子体纳米结构设置在所述氧化铝层远离所述基板的表面上，所述金属等离子体纳米结构为具有纳米级大小孔洞的金属等离子体薄膜，所述孔洞的直径为100-300nm；

所述预定颜色包括多种不同的颜色，所述出射的光颜色不同的反射彩膜层中的氧化铝层的厚度不同。