[发明专利]多用途金属膜层真空镀膜生产线

说明书

本发明公开了多用途金属膜层真空镀膜生产线，包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。本发明提供的多用途金属膜层真空镀膜生产线能够实现各类镀膜的大批量、低成本生产，而且溅射沉积速率高，工艺通用性强。素扩散路径短，无中间产物，无元素蒸发，因而制备速度快、效率高，良品率高达95％以上，特别适合大规模工业化生产。

技术领域

本发明涉及多用途金属膜层真空镀膜生产线，属于真空镀膜技术领域。

背景技术

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。

磁控溅射是利用荷能粒子轰击固体靶材，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。靶材可选用金属靶和陶瓷靶。磁控溅射制备法具有沉积速率高、基片温度低、成膜黏附性好、易控制、成本低、适合大面积制膜的优点。真空蒸镀就是将需要制成薄膜的物质放于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面上析出。真空蒸镀的装置比较简单，工艺参数较少，易控制薄膜的生长，薄膜中杂质含量低。但真空度的高低直接影响薄膜的结构和性能，真空度低，材料受残余气体分子污染严重，薄膜性能变差，提高衬底温度有利于气体分子的解吸。

随着真空镀膜领域中镀膜技术的日新月异，对镀膜产品的要求也越来越高，因此镀膜生产线也出现越来越多的改进，生产线的要求随之提高，现有技术的镀膜生产线的整体稳定性及镀膜均匀性，生产效率低以及相应的设备成本高。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供可立式镀膜的多用途金属膜层真空镀膜生产线。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明的目的在于提供多用途金属膜层真空镀膜生产线，包括：依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。

优选地，所述质检系统包括光源和顺次连接的光电探测器、滤波器、A/D转换器，所述光源与光电探测器分设于镀膜质检辊两侧，所述光源发出的光透过镀膜基片被光电探测器接收，经滤波后通过A/D转换器转换为电信号。

优选地，所述质检系统还包括服务器，所述服务器与A/D转换器相连，用于将转换的电信号进行分析和对比。

优选地，所述质检室内还设有镀膜质检台和生产线实时质量监控系统，所述镀膜质检台包括基片架，所述基片架上方排列有若干基架孔，所述基架孔下方设有传动装置，所述生产线实时质量监控系统包括顺次连接的一扫描透射光谱测量探头、二个扫描反射光谱测量探头和一个面电阻测量探头，所述测量探头均安装于镀膜质检台上方，所述传动装置与镀膜质检辊相连，将镀膜质检辊传送的基片传输至基架孔。

优选地，所述进口缓冲室、进口传送室、溅射室和出口传送室均安装有加热装置。

更优选地，所述加热装置与各工艺室之间通过镜面板隔热。