[发明专利]三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线在审

专利信息
申请号: 201711334379.X 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN109912233A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 黄乐;孙桂红;祝海生;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/35
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 张超宇;冯子玲
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 传送腔室 真空镀膜生产线 镀膜 出口缓冲腔 进口缓冲腔 出口腔室 溅射腔室 进口腔室 依次连接 传动台 质检台 上片 质检 大规模工业化生产 室内 低成本生产 溅射沉积 通用性强 质检系统 出口腔 卸片区 腔室 卸片 进口 出口
【权利要求书】:

1.三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:依次连接的上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室、质检腔室和卸片区,所述上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室和卸片区内均设有依次连接的传动台,所述质检腔室内设有镀膜质检台和质检系统,所述出口腔室内传动台与镀膜质检台相连,所述传动台用于传送镀膜基片,所述镀膜质检台用于检测基片质量,所述溅射腔室设有十六对旋转阴极,五个平面阴极,镀膜产品膜层为Si3N4/SnO2/AZO/Ag/NiCr/SnO2/Si3N4/AZO/Ag/NiCr/SnO2/Si3N4/AZO/Ag/NiCr/Si3N4

2.根据权利要求1所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述镀膜质检台包括至少一真空镀膜基片架(11)、一轨道和传动机构(13),每个所述真空镀膜基片架(11)均在其对应轨道上往返滑动,所述传动机构(13)与真空镀膜基片架(11)连接并为其提供动力,所述真空镀膜基片架(11)上安装有若干基片孔(12),真空镀膜基片安装于基片孔(12)内。

3.根据权利要求2所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述镀膜质检台包括两个真空镀膜基片架(11)和两条轨道和传动机构(13),所述两条轨道贴合且并行安装,每个所述真空镀膜基片架(11)均在其对应轨道上往返滑动,所述质检系统的光源与光电探测器分设于轨道两侧。

4.根据权利要求2或3所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述真空镀膜基片架(11)顶部水平排列有若干基片孔(12),所述传动机构(13)设于真空镀膜基片架(11)下部或底部,沿轨道走向安装。

5.根据权利要求4所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述传动机构(13)包括发动机、若干传动件和皮带,所述传动件固定连接于真空镀膜基片架(11)下部,各传动轮之间通过皮带连接。

6.根据权利要求4所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述传动机构(13)包括永磁传动电机、磁导向件和磁传动件,所述永磁传动电机与磁导向件和磁传动件磁性连接,所述磁传动件安装于真空镀膜基片架(11)底部,所述磁导向件安装于轨道内部。

7.根据权利要求1所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述质检系统包括顺次连接的一扫描透射光谱测量探头、二个扫描反射光谱测量探头和一个面电阻测量探头,所述测量探头均安装于镀膜质检台上方,基片通过镀膜质检台传送至卸片区的过程中,所述测量探头进行工作,测量基片的透射光谱、透射颜色、基片膜面和非镀膜面的反射光谱和反射颜色,测量基片膜层的面电阻值。

8.根据权利要求7所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述质检系统还包括服务器,所述服务器与测量探头相连,用于将测量探头采集的数据进行分析和对比。

9.根据权利要求7所述的三银LOW-E玻璃真空镀膜生产线,其特征在于:所述质检系统还包括回收装置,所述服务器与回收装置相连,所述回收装置在收到服务器发送的收取不合格基片的命令时,将锁定的基片回收。

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