[发明专利]基于纳米线表面等离激元的折射率测量方法及传感器系统有效

专利信息
申请号: 201711336503.6 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108120697B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 詹耀辉;姚凯强;胡增荣 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G01N21/41 分类号: G01N21/41;G01N21/49
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 冯瑞;杨慧林
地址: 215104 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 纳米 表面 离激元 折射率 测量方法 传感器 系统
【权利要求书】:

1.基于纳米线表面等离激元的折射率测量方法,其特征在于,包括:

产生光波,利用线偏振片将所述光波转化成线偏振光;

置于待测溶液中的纳米线接收所述光波,并激发表面等离激元,同时产生散射光;其中,所述纳米线为中空纳米金属且为多层膜结构;

利用光谱分析仪接收所述散射光,通过对所述纳米线表面的散射光进行积分得到所述散射光的不同散射率峰值对应的波长,并根据峰值的位置来确定所述待测溶液的折射率。

2.基于纳米线表面等离激元的传感器系统,其特征在于,包括:

光源,用于产生光波;

线偏振片,用于将所述光波转化成线偏振光;

纳米线,置于待测溶液中,用于接收所述光波,并激发表面等离激元,同时产生散射光;其中,所述纳米线为中空纳米金属且为多层膜结构;

光谱分析装置,用于接收所述散射光,得到所述散射光的不同散射率峰值对应的波长,并根据峰值的位置得到所述待测溶液的折射率;

衬底,所述衬底上设有与所述纳米线匹配的凹槽,所述纳米线置于所述凹槽中,所述衬底包括Si衬底和SiO2衬底,所述SiO2衬底置于所述Si衬底上。

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