[发明专利]涡轮系统、用于涡轮系统的排气框架及其支柱有效
| 申请号： | 201711343590.8 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108204255B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | P.M.贾库布察克;W.德罗斯兹克;R.贾米奥尔科夫斯基;J.普托夫斯基 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | F01D25/30 | 分类号： | F01D25/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周心志;李强 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涡轮 系统 用于 排气 框架 及其 支柱 | ||
1.一种用于涡轮系统的排气框架支柱，所述支柱包括：
主体，其包括前边缘和后边缘；
穿过所述主体形成的第一隙缝，所述第一隙缝在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸；
第一区段，其形成于所述前边缘与所述第一隙缝之间；
第二区段，其形成于所述后边缘与所述第一隙缝之间，所述第二区段被配置成独立于所述第一区段移动，
其中，所述第一隙缝在所述支柱的第一末端与第二末端之间径向延伸；以及
穿过所述主体形成的轴向邻近于所述第一隙缝的不同的第二隙缝，所述不同的第二隙缝在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸。
2.根据权利要求1所述的支柱，其特征在于，所述第二区段形成于所述第一隙缝与所述不同的第二隙缝之间。
3.根据权利要求2所述的支柱，其特征在于，进一步包括：
穿过所述主体形成的位于所述后边缘与所述不同的第二隙缝之间的第三区段，所述第三区段被配置成独立于以下项移动：
所述第一区段；以及
所述第二区段。
4.根据权利要求3所述的支柱，其特征在于，所述第一区段的轴向宽度等于以下项的轴向宽度：
所述第二区段；以及
所述第三区段。
5.根据权利要求1所述的支柱，其特征在于，所述第一区段包括不同于所述第二区段的第二轴向宽度的第一轴向宽度。
6.根据权利要求1所述的支柱，其特征在于，所述第一隙缝包括键孔槽。
7.一种用于涡轮系统的排气框架，所述排气框架包括：
内部壳体；
外部壳体，其同心地包围所述内部壳体；以及
多个支柱，其在所述内部壳体与所述外部壳体之间径向延伸并且连接到所述内部壳体和所述外部壳体，所述多个支柱中的每一个包括：
主体，其包括前边缘和后边缘；
穿过所述主体形成的第一隙缝，所述第一隙缝在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸；
第一区段，其形成于所述前边缘与所述第一隙缝之间；
第二区段，其形成于所述后边缘与所述第一隙缝之间，所述第二区段被配置成独立于所述第一区段移动，
其中，所述第一隙缝在所述支柱的第一末端与第二末端之间径向延伸；以及
穿过所述主体形成的轴向邻近于所述第一隙缝的不同的第二隙缝，所述不同的第二隙缝在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸。
8.根据权利要求7所述的排气框架，其特征在于，所述第二区段形成于所述第一隙缝与所述不同的第二隙缝之间。
9.根据权利要求8所述的排气框架，其特征在于，进一步包括：
第三区段，其形成于所述后边缘与所述不同的第二隙缝之间，所述第三区段被配置成独立于以下项移动：
所述第一区段；以及
所述第二区段。
10.根据权利要求9所述的排气框架，其特征在于，所述第一区段的轴向宽度等于以下项的轴向宽度：
所述第二区段；以及
所述第三区段。
11.根据权利要求7所述的排气框架，其特征在于，所述第一区段包括不同于所述第二区段的第二轴向宽度的第一轴向宽度。
12.根据权利要求7所述的排气框架，其特征在于，所述多个支柱中的每一个的所述第一隙缝包括键孔槽。
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