[发明专利]阵列基板及其制作方法、反射式液晶显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板、依次层叠于所述衬底基板上的反射层及配向层，所述配向层的一个表面与所述反射层的一个表面贴合；所述配向层包括聚合物，所述聚合物在配向层内形成凹凸不平的层结构，所述层结构位于所述配向层与所述反射层贴合的表面，所述聚合物为接枝单体聚合形成或者为改性配向材料聚合形成，所述改性配向材料为接枝单体接枝于所形成所述配向层的配向材料的主链上形成。

2.如权利要求1所述的阵列基板，所述接枝单体为Y₁-X-Y₂，其中，所述X为取代或未取代的苯环、双苯环类苯环结构，Y₁及Y₂均为丙烯酸类或马来酸酐类结构。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述X为中任意一种。

4.一种反射式液晶显示面板，其特征在于，包括彩膜基板、液晶层及如权利要求1-3任意一项的阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间。

5.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

提供一衬底基板，在衬底基板一面形成反射层；

将配向材料与接枝单体材料进行混合，得到配向剂；

将所述配向剂沉积于所述反射层背向所述衬底基板的一面形成配向剂层；

对所述配向剂层进行紫外光照射或者热烘烤，得到配向层；所述配向层包括聚合物，位于所述配向层与所述反射层贴合的表面的聚合物在配向层内形成凹凸不平的层结构，使得所述层结构位于所述配向层与所述反射层贴合的表面；所述聚合物为所述配向剂在紫外光照射或者热烘烤下反应得到，所述聚合物为接枝单体聚合形成或者为改性配向材料聚合形成，所述改性配向材料为接枝单体接枝于所形成所述配向层的配向材料的主链上形成。

6.如权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述配向剂为改性配向材料；所述配向材料与接枝单体材料进行混合后，所述接枝单体接枝于所述配向材料的主链上形成所述改性配向材料。

7.如权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述接枝单体为Y₁-X-Y₂，其中，所述X为取代或未取代的苯环、双苯环类苯环结构，Y₁及Y₂均为丙烯酸类或马来酸酐类结构。