[发明专利]阵列基板及其驱动方法、制备方法及显示装置有效
申请号: | 201711352365.0 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN109934059B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 叶志杰;贾文斌;王欣欣;彭锐;窦义坤;胡月 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06V40/13 | 分类号: | G06V40/13 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 驱动 方法 制备 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括:介质层,位于所述介质层上的多个像素单元;其特征在于,每个所述像素单元包括透明显示器件;所述阵列基板还包括:
位于至少部分所述像素单元之间的辅助发光器件;
位于所述介质层背离所述像素单元的一侧的指纹识别层;其中,
所述指纹识别层包括:指纹识别器件;所述指纹识别器件用于在指纹识别阶段,根据接收到由所述辅助发光器件发射并经触控体反射的光,以确定指纹信息;
所述辅助发光器件包括白色电致发光器件;
所述辅助发光器件与所述指纹识别器件在所述介质层上的正投影无重叠;
多个所述像素单元呈阵列排布,其中在行方向上,任意两相邻的所述像素单元之间均设置有所述辅助发光器件;
所述像素单元与所述指纹识别器件一一对应设置;
且所述指纹识别器件在所述介质层上的正投影覆盖所述像素单元在所述介质层上的正投影。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:层间绝缘层和反射层;其中,
所述反射层位于所述指纹识别层背离所述介质层的一侧;
所述层间绝缘层位于所述反射层与所述指纹识别层之间。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述辅助发光器件包括沿背离所述介质层依次设置的第一极、发光层、第二极;其中,所述第一极的材料包括反射材料。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述透明显示器件包括用于发出红、绿、蓝三种颜色光之一或者任意两种混光的电致发光器件。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述指纹识别器件包括:光电二极管。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述介质层包括玻璃基底。
7.一种如权利要求1-6中任一项所述的阵列基板的驱动方法,其特征在于,包括:
指纹识别阶段:控制辅助发光器件发光,并控制指纹识别层中的指纹识别器件工作,指纹识别器件根据其接收到由所述辅助发光器件发射并经触控体反射的光,以确定指纹信息。
8.根据权利要求7所述的阵列基板的驱动方法,其特征在于,还包括:
显示阶段:控制像素单元中的各个透明显示器件发光,以及控制所述辅助发光器件发光,以实现图像的显示。
9.一种阵列基板的制备方法,包括:在介质层上形成多个像素单元的步骤;其特征在于,形成每个所述像素单元的步骤包括:形成透明显示器件;所述阵列基板的制备方法还包括:
在位于至少部分所述像素单元之间形成辅助发光器件;以及,
在位于所述介质层背离所述像素单元的一侧形成指纹识别层的步骤;其中,
形成所述指纹识别层的步骤包括:形成指纹识别器件;
所述指纹识别器件用于在指纹识别阶段,根据接收到由所述辅助发光器件发射并经触控体反射的光,以确定指纹信息;
所述辅助发光器件与所述指纹识别器件在所述介质层上的正投影无重叠;
多个所述像素单元呈阵列排布,其中在行方向上,任意两相邻的所述像素单元之间均设置有所述辅助发光器件;
所述像素单元与所述指纹识别器件一一对应设置;
且所述指纹识别器件在所述介质层上的正投影覆盖所述像素单元在所述介质层上的正投影。
10.根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,还包括:
在指纹识别层背离所述介质层的一侧依次形成层间绝缘层和反射层的步骤。
11.根据权利要求9所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,形成所述辅助发光器件的步骤包括:
沿背离所述介质层依次形成第一极、发光层、第二极;其中,所述第一极的材料包括反射材料。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的阵列基板。
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