[发明专利]一种抗磨、抗腐蚀以及增透镜片镀膜方法在审
申请号: | 201711354758.5 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107881473A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 吴晓彤 | 申请(专利权)人: | 奥特路(漳州)光学科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/20;C23C14/18 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司35211 | 代理人: | 翁志霖 |
地址: | 360000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 腐蚀 以及 透镜 镀膜 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镜片技术领域,尤其是涉及一种抗磨、抗腐蚀以及增透镜片镀膜方法。
背景技术
随着人们文化、生活水平的不断提高,视力保健工作的开展,眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件,在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成,从镜片的功能上讲,它具有调节进入眼睛之光量,增加视力,保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。
目前镜片的种类繁多,如目前常见的TAC偏光镜片,其可100%阻隔有害光线,因此颇受消费者的青睐,特别适于户外运动使用,然而,在运动过程中镜片难免发生刮擦,因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素,目前市售的TAC 偏光镜片,其表面的硬度只能达到H,其耐磨性为1.5 级,很容易被硬物刮花或摔坏,影响使用者观察事物的效果,既给使用者带来不便,而且还需经常更换,增加使用成本,有待改进。此外,现有镜片还存在抗腐蚀性差、遇海水易脱模、增透性差等缺陷。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种抗磨抗腐蚀性好、耐磨强度高,增透性强的抗磨、抗腐蚀以及增透镜片镀膜方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种抗磨、抗腐蚀以及增透镜片镀膜方法,所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片,所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层;所述第一膜层为五氧化三钛层,厚度为20-80nm;所述第二膜层为二氧化硅层,厚度为60-90nm;所述第三膜层为金属层,厚度为25-40nm;所述第四膜层为防腐蚀膜层,厚度为10-50nm;所述第五膜层为高硬度层,厚度为20-40nm;所述基片由树脂成型时,所述镀膜方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜;
A、分别对双面镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为20-80nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、分别对双面镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为60-90nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、分别对双面镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm;其中,所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、分别对双面镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第四膜层的膜材为PrAlO3 与AlO3Pr 的混合物,形成防腐蚀膜层;
E、分别对双面镀第五膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为20-40nm;其中,所述第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体,形成高硬度层。
所述基片由玻璃成型时,所述镀膜方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜;
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