[发明专利]一种防尘镜片镀膜方法

权利要求书

1.一种防尘镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防尘光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗；

2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；

3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；

4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：

5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；

6）镀AR膜：采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片镀AR膜。

2.根据权利要求1所述的一种镜片加工方法，其特征在于：步骤6）镀AR膜的具体步骤如下：

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层形成后的厚度为5-15nm，最终形成二氧化硅层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层形成后的厚度为10-20nm，最终形成五氧化三钛层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层形成后的厚度为20-50nm，最终形成二氧化硅层；

D、镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成五氧化三钛层；

E、镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化锗，二氧化锗蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成二氧化锗层；

F、镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击琥珀，琥珀蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成琥珀层。

3.根据权利要求1所述的一种防尘镜片镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：

a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；

b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；

c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。

4.根据权利要求1所述的一种防尘镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片为高分子树脂成型。