[发明专利]一种颅内覆膜支架在审

专利信息
申请号: 201711356267.4 申请日: 2017-12-16
公开(公告)号: CN107951594A 公开(公告)日: 2018-04-24
发明(设计)人: 吕津津;孙剑;吕纬岩 申请(专利权)人: 北京久事神康医疗科技有限公司
主分类号: A61F2/07 分类号: A61F2/07
代理公司: 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)11589 代理人: 王闯
地址: 100176 北京市大兴区北京经济*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 颅内覆膜 支架
【权利要求书】:

1.一种颅内覆膜支架,其特征在于,包括支架本体和包覆在支架本体上的覆膜,所述支架本体为多个单元网格相互连接而成的自膨胀型网管结构,所述覆膜包覆在所述支架本体的中部,所述支架本体及所述覆膜的两端均设置有显影定位标记。

2.如权利要求1所述的颅内覆膜支架,其特征在于,所述网管结构为由记忆合金管经激光切割而成,所述记忆合金管的材质为镍钛合金。

3.如权利要求1所述的颅内覆膜支架,其特征在于,所述显影定位标记为不透X射线的标记,所述不透X射线的标记为点状结构。

4.如权利要求1所述的颅内覆膜支架,其特征在于,所述覆膜为单层,所述覆膜包覆在所述支架本体的外侧或内侧。

5.如权利要求1所述的颅内覆膜支架,其特征在于,所述覆膜为双层,所述覆膜包覆在所述支架本体的外侧和内侧。

6.如权利要求5所述的颅内覆膜支架,其特征在于,所述覆膜通过热合或者缝合的方式固定在支架本体上。

7.根据权利要求1所述颅内覆膜支架,其特征在于,所述支架两侧无覆膜覆盖的部位为喇叭口结构。

8.根据权利要求1-7任一项所述颅内覆膜支架,其特征在于,所述覆膜的材料为纳米电纺聚四氟乙烯、膨体聚四氟乙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯。

9.根据权利要求1-7任一项所述颅内覆膜支架,其特征在于,所述支架的丝径范围为0.03~0.2mm。

10.根据权利要求1-7任一项所述颅内覆膜支架,其特征在于,所述覆膜的边缘为直边或沿支架边缘齐平的波浪形边。

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