[发明专利]一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽有效

专利信息
申请号: 201711358693.1 申请日: 2017-12-17
公开(公告)号: CN107999153B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 刘赵淼;李梦麒;张龙祥 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 递减 间距 圆柱 阵列 结构 通道 过滤
【权利要求书】:

1.一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:该微通道过滤槽包括主体结构(1)、流体入口(2)、椭圆形贮液池(3)、第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)、微流控通道(8)和下底板(9);

流体入口(2)、椭圆形贮液池(3)、微流控通道(8)为主体结构(1)上的凹槽结构;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)均为主体结构(1)上的孔洞结构,且各结构为芯片工作时液体的流动区域;所述主体结构(1)和下底板(9)通过上下键合固定,下底板(9)置于主体结构(1)底部,以支撑芯片的主体结构并提供流动空间;流体入口(2)通过微通道与椭圆形贮液池(3)连接,椭圆形贮液池(3)与微流控通道(8)连接;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)设置在椭圆形贮液池(3)内;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)并排布置在椭圆形贮液池(3)内;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)之间为错列布置;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)的圆柱阵列尺寸逐渐由大到小渐变;流体从流体入口(2)流至椭圆形贮液池(3)并到达第一级圆柱阵列结构,流体入口(2)位于椭圆形贮液池(3)中间部位,并与椭圆形贮液池(3)垂直相接;第一级圆柱阵列结构(4)由7个半径150μm,高120μm的圆柱构成,相邻两个圆柱间距为100μm,当流体经过第一级圆柱阵列结构时,大于100μm的固体垃圾会被停留在贮液池。

2.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:所述主体结构(1)和下底板(9)由聚二甲基硅烷制成。

3.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:流体从第一级圆柱阵列结构流至第二级圆柱阵列结构(5),流体中所携带的固体垃圾均小于100μm。

4.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:第二级圆柱阵列结构由10个半径120μm,高120μm的圆柱构成,相邻两个圆柱间距为80μm,大于80μm的固体垃圾会被停留在贮液池。

5.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:流体从第二级圆柱阵列结构流至第三级圆柱阵列结构(6),流体中所携带固体垃圾均小于80μm。

6.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:第三级圆柱阵列结构由13个半径90μm,高120μm的圆柱构成,相邻两个圆柱间距为60μm,大于60μm的固体垃圾会被停留在贮液池;流体从第三级圆柱阵列结构流至第四级圆柱阵列结构(7),所携带固体垃圾均小于60μm。

7.根据权利要求1所述的一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:第四级圆柱阵列结构由17个半径60μm,高120μm的圆柱构成,相邻两个圆柱间距为40μm,大于40μm的固体垃圾会被停留在贮液池,流体最终流至出口位置,该出口位置能够与任意形状的通道相连接,以达到向任意通道流入纯净流体的目的。

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