[发明专利]一种金属铜冶炼排放废水回收工艺在审

专利信息
申请号: 201711361384.X 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN108117213A 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 胡长鑫;戴海平;柯永文;孟龙;刘洋 申请(专利权)人: 天津膜天膜科技股份有限公司
主分类号: C02F9/10 分类号: C02F9/10;C02F101/10;C02F101/12;C02F101/20;C02F103/16
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 李蕊
地址: 300457 天津*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属铜 冶炼 排放 废水回收 冶炼废水 废水 预处理 重金属离子 金属冶炼 补水量 回用水 减量化 镁离子 水质 保证
【说明书】:

发明提供了一种金属铜冶炼排放废水回收工艺,通过对金属铜冶炼排放废水进行预处理和减量化,降低了冶炼废水的排放,提高了金属铜冶炼废水的利用率,解决了冶炼用水补水量大的问题,对废水中的钙、镁离子,重金属离子,COD等主要问题都做出了相应的处理方案,保证了金属冶炼回用水的水质。

技术领域

本发明涉及废水回收技术领域,是一种金属铜冶炼排放废水回收工艺。

背景技术

在我国,金属冶炼企业每天都会排出大量废水,对周边环境造成了巨大的污染和危害,因此加强对金属冶炼企业废水的处理,减少其危害,是一个迫在眉睫的问题,对于金属冶炼企业,采取相应的措施,做好废水的回收利用,不仅是可持续发展的要求,更是提高企业经济效益的关键。

对冶炼金属铜企业的标准也在不断的提高,新建的铜冶炼企业水循环利用率应达到97.5%以上,吨铜新水消耗应在20吨以下,现有企业水循环利用率应达到97%以上,吨铜新水消耗应在20吨以下,新建含铜二次资源冶炼企业的水循环利用率应达到95%以上,现有含铜二次资源冶炼企业的水循环利用率应达到90%以上。铜冶炼含重金属废水必须达标排放,排水量必须达到国家相关标准的规定。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种金属铜冶炼排放废水回收工艺,所述工艺针对金属铜冶炼排放废水可以高倍率回收。

为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:

一种金属铜冶炼排放废水回收工艺,包括预处理部分、减量化部分和固化部分,其中,

预处理部分,包括加药混凝沉淀、pH调节系统、砂滤、超滤系统、钠床离子交换器;混凝沉淀后的出水进入到pH调节系统,因为前段添加的混凝剂为碱性,所以导致水中pH偏高,影响后面反渗透系统的脱盐率,所以要靠pH调节系统,把pH调节到7-8.5之间,增加后面反渗透的脱盐率,为了不增加结垢因子,在pH调节部分选择用盐酸调节pH。调节后的水进到砂滤系统,通过砂滤系统把水中大颗粒的杂质去除,降低浊度,砂滤也可以去除部分COD。砂滤出水进入到超滤系统,进一步去除水中的小颗粒杂质和部分COD,同时超滤对二氧化硅胶体去除率在99%以上。超滤的出水稳定,SDI15<3,满足反渗透的进水要求,并且把超滤的反洗废水回收到混凝沉淀池前,从新处理。超滤出水进入到钠床离子交换器,增加钠床离子交换器是为了保证在进入到反渗透前,确保水中的结垢因子能降到最低,对后面反渗透浓缩不造成结垢影响。预处理部分主要是铜冶炼废水先进入到混凝沉淀设备,在混凝沉淀部分分别投加氢氧化钙、碳酸钠、絮凝剂(聚合氯化铝、聚丙烯酰胺)药剂,去除循环冷却水中的钙、镁、硅等结垢离子,同时也去除部分COD,混凝沉淀池排放的污泥通过压滤机后,污泥外运。

减量化部分包括一级反渗透、二级反渗透、超高压反渗透、脱砷反应槽。减量化部分是从钠床离子交换器的出水,进入到一级反渗透开始。原水通过预处理阶段,符合反渗透的进水条件,通过一级反渗透,产水直接供给到前端冶炼铜用水工艺中,一级反渗透浓水进入到二级反渗透,产水直接供给到前端冶炼铜用水工艺中,二级浓水在进入到超高压反渗透,产水直接供给到前端冶炼铜用水工艺中,浓水进入到脱砷反应槽进行重金属离子去除,因为经过三次反渗透浓缩,导致水中含盐量和一些重金属离子升高,水的体积也得到了大大的减量。超高压反渗透浓水在进入到脱砷反应槽,脱砷反应槽把重金属离子砷截留。

固化部分主要包括MVR蒸发系统,脱砷反应槽的出水通入到MVR蒸发器中,通过MVR蒸发器,结晶分离出商品盐。

整套工艺从预处理到减量化,大大减少了冶炼铜废水的外排量,冶炼铜废水的回用率达到98%以上,排放的废水近乎为零。整个工艺关键在去除钙、镁等结垢离子,保证后面的反渗透系统不会结垢,可以顺利进行,混凝沉淀是去除结垢离子的主要步骤,所以在此阶段加药的种类、加药的量和顺序以及是否会对下面的步骤造成影响都需要考虑。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津膜天膜科技股份有限公司,未经天津膜天膜科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711361384.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top