[发明专利]一种含和田玉粉的祛痘面霜

说明书

本发明公开了一种含和田玉粉的祛痘面霜，这种面霜由成分组成：纳米级和田玉粉、猴头菌多糖、保湿剂、润肤剂、乳化剂、防腐剂、增稠剂、去离子水；本发明祛痘面霜利用纳米级和田玉粉抗菌、抑制痤疮丙酸杆菌和促进新陈代谢的效果配合猴头菇多糖促进神经生长因子的表达的功能和人体自身的修复功能达到祛痘并且没有痘印的效果。

技术领域

本发明涉及化妆品领域，具体涉及一种含和田玉粉的祛痘面霜。

背景技术

痘是痤疮的俗称，又叫“青春痘”、“暗疮”或“粉刺”，是由于毛囊及皮脂腺阻塞、发炎所引发的一种皮肤病。青春期时，体内的荷尔蒙会刺激毛发生长，促进皮脂腺分泌更多油脂，毛发和皮脂腺因此堆积许多物质，使油脂和细菌附着，引发皮肤红肿的反应。由于这种症状常见于青年男女，所以称为“青春痘”。痘痘发作时引起血管扩张，痘痘消下去后血管并不会马上缩下去，就形成了一些平平红红的红斑，而皮肤细胞的发炎反应造成了对皮肤组织的破坏，发炎后的色素沉淀会使长过红痘痘的地方留下黑黑脏脏的颜色，这样就形成了痘印。

现有祛痘的方法有很多种，1、如激光治疗青春痘方法是通过特定波长的高强度染料激光照射，能快速破坏丙酸青春痘杆菌，有效抑制细菌繁殖，消除其对组织的刺激与破坏作用，但是激光治疗的作用太强，而且只是物理方法把逗破坏掉，不能从根本上祛痘；2、利用芦荟、黄瓜、薰衣草等一些天然的植物成份、中药成份或中药与植物混合成份祛痘，现有的这种祛痘方法安全、能够起到调节皮肤油脂从而从根本上祛痘的作用，但是往往使用这种天然植物成份祛痘时时间长、祛痘后的印记不易完全去除，配方有待于改进；3、利用水杨酸、波尼松、地塞米松等一些西药除痘，西药的副作用强。

发明内容

本发明的目的在于提供一种祛痘面霜，这种面霜利用纳米级和田玉粉抑制痤疮丙酸杆菌的效果达到祛痘的效果，并利用纳米级和田玉粉促进新陈代谢的功效配合人体本身的修复功能修复祛痘后的皮肤，达到无痘印的效果；这种面霜还添加了猴头菇多糖，具有的抑制络氨酸酶活性的效果，达到美白的目的。

为了达到上述目的，本发明提供如下的技术方案：

一种含和田玉粉的祛痘面霜由以下重量份成分组成：纳米级和田玉粉0.5-1份、猴头菌多糖0.5-2份、保湿剂10-25份、润肤剂5-10份、乳化剂3-7份、防腐剂0.1-0.2份、增稠剂0.05-0.2份、去离子水40-75份。

优选地，一种含和田玉粉的祛痘面霜由以下重量份成分组成：纳米级和田玉粉0.7份、猴头菌多糖1份、保湿剂15份、润肤剂7份、乳化剂5份、防腐剂0.15份、增稠剂0.1份、去离子水55份、和田玉粉0.7份、猴头菌多糖1份。

所述的纳米级和田玉粉的制备方法包括如下步骤：

(1)将和田玉原粉采用球磨工艺进行粗磨,研磨时间为20min-3h；

(2)将经步骤(1)粗磨后得到的粉体筛分为粗粉和细粉，其中，所述粗粉的粒径>2μm，细粉的粒径为≤2μm；

(3)分别将步骤(2)中的粗粉和细粉采用球磨工艺进行研磨，得到粒径为150～200nm的细粉，其中粗粉的研磨时间为2h，细粉的研磨时间为3h；

(4)将步骤(3)中得到的所述粒径为150～200nm的细粉采用球磨工艺进行超细研磨，得到纳米级和田玉粉，所述的纳米级和田玉粉在至少一个维度上的粒径≤100nm。