[发明专利]偏光片及显示设备

权利要求书

1.一种偏光片，其特征在于，包括偏光膜层、蛾眼膜、第一保护层及第二保护层，其中，所述蛾眼膜和所述第二保护层分别连接所述偏光膜层相对的两侧面，所述第一保护层连接所述蛾眼膜远离所述偏光膜层的侧面，所述蛾眼膜靠近所述偏光膜层的侧面上具有纳米蛾眼结构，所述纳米蛾眼结构与所述偏光膜层之间的间隙还填充有光学胶，所述蛾眼膜的厚度为10微米～110微米。

2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述蛾眼膜的厚度为50微米～100微米。

3.根据权利要求2所述的偏光片，其特征在于，所述蛾眼膜的厚度为75微米。

4.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述纳米蛾眼结构包括多个凸部，多个凸部之间的最大距离小于可见光波长。

5.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，还包括粘合胶层，所述粘合胶层连接所述第二保护层远离所述偏光膜层的侧面。

6.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述蛾眼膜的制备方法包括如下步骤：

提供一硅衬底层；

在所述硅衬底层的一侧面形成纳米蛾眼结构。

7.根据权利要求6所述的偏光片，其特征在于，所述在所述硅衬底层的一侧面形成纳米蛾眼结构，具体为：

采用模具压印在所述硅衬底层的一侧面形成所述纳米蛾眼结构，其中，所述模具上微雕形成有所述纳米蛾眼结构的反转体。

8.根据权利要求6所述的偏光片，其特征在于，所述在所述硅衬底层的一侧面形成纳米蛾眼结构，具体为：

采用银镜反应，在所述硅衬底层的一侧面镀银，形成银层；

对所述银层进行退火处理形成银粒子掩模；

对所述银粒子掩模和所述衬底层靠近所述银粒子掩模的侧面进行刻蚀处理，形成所述纳米蛾眼结构。

9.一种显示设备，包括上偏光片，其特征在于，所述上偏光片为如权利要求1至8中任一项所述的偏光片。