[发明专利]在空气界面具有高折射率材料的抗反射涂层有效
| 申请号： | 201711370091.8 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108375809B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 范纯圣;蔡陈纬;林蔚峰 | 申请（专利权）人： | 豪威科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘媛媛 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 空气 界面 具有 折射率 材料 反射 涂层 | ||
1.一种光学元件，其包含透明衬底和抗反射涂层，其中所述抗反射涂层进一步包含：
至少透明的高折射率层和透明的低折射率层，其中所述高折射率层与所述低折射率层接触；且
其中所述抗反射涂层与空气之间的界面处为所述高折射率层；
其中所述高折射率层的厚度具有等于1-2nm的范围；并且
其中所述抗反射涂层是基于相消干涉的。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述低折射率层是二氧化硅层。
3.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述高折射率层是氧化钽层。
4.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述高折射率层是氮化硅层。
5.根据权利要求2所述的光学元件，其中所述抗反射涂层包含透明高折射率和低折射率材料的17个额外交替层。
6.根据权利要求5所述的光学元件，其中所述17个额外交替层、所述高折射率层与所述低折射率层形成以下具有厚度的19层：
其中，层19是位于所述抗反射涂层和空气之间的界面处的所述高折射率层；以及
其中所述高折射率层是氧化钽(Ta2O5)层，并且所述低折射率层是二氧化硅(SiO2)层。
7.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述衬底是裸玻璃。
8.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述衬底与高折射率材料的第一层接触。
9.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述衬底与低折射率材料的第一层接触。
10.一种图像传感器封装，其包含CMOS图像传感器和光学元件，其中所述光学元件进一步包含透明衬底和抗反射涂层，其中所述抗反射涂层进一步包含：
至少透明、高折射率层和透明、低折射率层，其中所述高折射率层与所述低折射率层接触；且
其中所述抗反射涂层与空气之间的界面处为所述高折射率层；
其中所述高折射率层的厚度具有等于1-2nm的范围；并且
其中所述抗反射涂层是基于相消干涉的。
11.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述低折射率层是二氧化硅层。
12.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述高折射率层是氧化钽层。
13.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述高折射率层是氮化硅层。
14.根据权利要求11所述的图像传感器封装，其中所述抗反射涂层包含透明高折射率和低折射率材料的17个额外交替层。
15.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述衬底是裸玻璃。
16.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述衬底与高折射率材料的第一层接触。
17.根据权利要求10所述的图像传感器封装，其中所述衬底与低折射率材料的第一层接触。
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