[发明专利]基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统

权利要求书

1.一种基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统，其特征在于，包括激光发射模块、分束模块、调光程模块和合束模块；

所述分束模块设置在所述激光发射模块的后方，所述激光发射模块用于产生啁啾激光脉冲，所述分束模块用于将所述啁啾激光脉冲分成多束光路；

所述调光程模块设置在所述分束模块的后方，且所述调光程模块设置在分束后的任意一条光路中，所述调光程模块用于调节该光路的光程；

所述合束模块设置在所述调光程模块的后方，所述合束模块用于汇聚不同光程的所述啁啾激光脉冲，并将发生干涉后的所述啁啾激光脉冲发射出。

2.根据权利要求1所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述激光发射模块包括激光发射器和展宽器；

所述激光发射器用于发射超短激光脉冲，所述展宽器用于将所述超短激光脉冲展宽形成所述啁啾激光脉冲。

3.根据权利要求2所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述分束模块包括第一分束镜；

所述第一分束镜设置在所述展宽器的后方，所述第一分束镜用于将经所述展宽器形成的所述啁啾激光脉冲进行分束。

4.根据权利要求3所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述第一分束镜将所述啁啾激光脉冲分成两束光，所述两束光分别形成第一光路和第二光路；

所述调光程模块设置在第一光路上。

5.根据权利要求3所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述调光程模块包括电光晶体和控制电源；

所述控制电源用于向所述电光晶体加载电压，所述电压随时间的变化规律与所述啁啾激光脉冲的频率随时间变化的规律相同，所述电光晶体用于通过所述啁啾激光脉冲；

所述电光晶体接收随时间变化的电压，所述电光晶体的折射率随所述电压的大小同步改变。

6.根据权利要求5所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，还包括第一反射镜；

所述第一反射镜设置在第一光路上，且所述第一反射镜设置在所述调光程模块的后方。

7.根据权利要求6所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，还包括第二反射镜；

所述第二反射镜设置在第二光路上，且设置在所述第一分束镜的后方。

8.根据权利要求7所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述合束模块包括第一合束镜；

所述第一合束镜设置在所述第一反射镜以及所述第二反射镜的后方。

9.根据权利要求5-8任一项所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统,其特征在于，所述电光晶体的数量至少一个。

10.根据权利要求8所述的基于马赫增德尔干涉仪的啁啾激光脉冲频谱整形系统，其特征在于，所述第一分束镜和所述第一合束镜均采用半透半反镜。