[发明专利]一种抗反射高透明超疏水自洁膜及其制备方法

权利要求书

1.一种抗反射高透明超疏水自洁膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将环氧基硅氧烷偶联剂加入到有机溶剂中，搅拌混合均匀后，加入胺类固化剂和去离子水，搅拌20～50min，然后加入致孔剂，继续搅拌1～3h，得到抗反射层溶液；

(2)将硅源加入到有机溶剂中，搅拌30～60min均匀分散，加入硅氧烷试剂、氨水和蒸馏水，继续搅拌120～130min混合均匀，老化，得到硅溶胶；

(3)将步骤(1)制备的抗反射层溶液经涂膜仪涂覆于经预处理后的基材表面，经煅烧处理后，冷却至室温，再浸泡于步骤(2)制备的硅溶胶中，取出，烘干，得到所述抗反射高透明超疏水自洁膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述环氧基硅氧烷偶联剂是指含有甲氧基、乙氧基、氯基和乙酰氧基中的至少一种基团以及环氧基团的有机硅烷化合物，包括γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、3-(2，3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷和2-(3，14-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述有机溶剂包括甲醇、乙醇、丙酮和异丙醇中的至少一种；所述胺类固化剂为十八胺、乙二胺、己二胺、二乙烯三胺和三乙烯四胺中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述致孔剂包括聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙二醇、聚乙烯醇、羟丙基纤维素、聚氨酯、聚二烯丙基二甲基氯化铵、聚丙烯酸和聚烯丙基胺盐酸盐中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，按重量份数计，各物料组分的加入量如下：环氧基硅烷偶联剂2～6份，有机溶剂30～60份，胺类固化剂0.1～3份，去离子水0.5～3份，致孔剂0.6～5份；步骤(1)操作过程保持在恒温25～40℃下进行。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述硅源包括正硅酸乙酯或三甲氧基硅烷；所述有机溶剂包括甲醇、乙醇、丙酮和异丙醇中的至少一种；所述硅氧烷试剂包括六甲基二硅胺烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三氯硅烷或三甲基氯硅烷；所述氨水的浓度为0.898g/ml～0.907g/ml。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，按重量份数计，各物料组分的加入量为：硅源4.6～5.4份，有机溶剂60.0～75.0份，硅氧烷试剂4.0～4.6份，氨水0～2.0份，蒸馏水4.0～8.2份；所述老化在室温下老化2天以上，老化后的溶胶用与溶胶的体积比为0～10∶1的乙醇稀释。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述涂覆的层数为1～7层，使涂覆的总厚度在0～150nm之间；所述煅烧处理是在300～600℃煅烧120～180min。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述浸泡的时间为0.5～24h；所述烘干是在60～80℃烘5～30min。

10.由权利要求1～9任一项所述制备方法制得的一种抗反射高透明超疏水自洁膜。