[发明专利]一种等离子体清洗陶瓷膜装置

权利要求书

1.一种等离子体清洗陶瓷膜装置，包括清洗壳体（1）、等离子体发生器（3）、清洗底座（5）、清洗柜门（7）和行走轮（9），其特征在于:所述清洗壳体（1）内部设置有清洗室（2），所述清洗室（2）两侧壁安装有等离子体发生器（3），所述等离子体发生器（3）之间形成有等离子电场，所述清洗室（2）底部安装有清洗底座（5），所述清洗底座（5）下侧安装有转轴（41），所述转轴（41）下侧传动连接有电动机（4），且电动机（4）安装在清洗壳体（1）下侧，所述清洗壳体（1）下侧安装有支撑脚（11），所述清洗壳体（1）顶部安装有抽真空泵（6），所述抽真空泵（6）通过输气管（61）与清洗室（2）连通，所述清洗底座（5）上端两侧安装有固定架（8）。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗陶瓷膜装置，其特征在于：所述固定架（8）由第一支架（81）、第二支架（82）和上压杆（83）组成，第一支架（81）上端活动插接有第二支架（82），第二支架（82）上端活动插接有上压杆（83），固定架（8）一侧安装有调节旋钮（84）。

3.根据权利要求2所述的一种等离子体清洗陶瓷膜装置，其特征在于：所述上压杆（83）设置成弧形，且上压杆（83）下侧安装有橡胶垫（831）。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗陶瓷膜装置，其特征在于：所述清洗室（2）一侧通过铰链（71）安装有清洗柜门（7），清洗柜门（7）内部安装有透视窗（73），且清洗柜门（7）一端安装有圆孔锁（72）。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体清洗陶瓷膜装置，其特征在于：所述清洗室（2）内底部通过支架（91）安装有行走轮（9）。

6.根据权利要求4所述的一种等离子体清洗陶瓷膜装置，其特征在于：所述清洗室（2）与清洗柜门（7）之间安装有密封垫（74）。