[发明专利]一种磁性高比表面积高硅沸石及其制备方法和应用有效
申请号: | 201711376348.0 | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN108079939B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 王程;冷少争;徐媛;张雪萌;田秦月;黄剑锋;曹丽云 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | B01J20/16 | 分类号: | B01J20/16;B01J20/28;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/32;C02F101/34 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710021 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁性 表面积 高硅沸石 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种磁性高比表面积高硅沸石的制备方法,其特征在于,其过程如下:
将高硅沸石加入有机溶剂中,搅拌均匀,再加入磁性氧化硅,经恒温振荡、抽滤、水洗、干燥和焙烧,得到磁性高比表面积高硅沸石;
高硅沸石的制备过程如下:
将天然斜发沸石加入酸溶液中,恒温振荡,再经抽滤、水洗和干燥制得高硅沸石;
所述酸溶液的浓度为0.1-3mol/L,天然沸石与酸溶液恒温振荡的反应温度为60-80℃,反应时间为12-48h;
磁性氧化硅的制备过程如下:
将四氧化三铁加入去离子水中,超声搅拌均匀后,再加入水溶性硅酸盐溶液,并用酸调节pH,恒温振荡反应后,经水洗、磁分离和干燥得到高比表面的磁性氧化硅;
所述的水溶性硅酸盐溶液浓度为0.5-3mol/L,水溶性硅酸盐与四氧化三铁反应体系的pH为3-7,反应温度为60-80℃,反应时间为1-5h;
有机溶剂为环己烷、乙醇或丙酮,磁性氧化硅与高硅沸石质量比的比值为1/9~1,高硅沸石与磁性氧化硅的反应温度为60-80℃,反应时间为1-3h;焙烧温度为200-800℃,焙烧时间为1-3h。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,水溶性硅酸盐为硅酸钠或硅酸钾,用于调节pH值的酸为盐酸、硫酸或硝酸。
3.一种磁性高比表面积高硅沸石,其特征在于,通过权利要求1-2任意一项制备方法制得,该磁性高比表面积高硅沸石的磁回收率为83.54-98.78%,比表面积为141.58-162.68cm2/g,硅铝的原子比为7.5-12。
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