[发明专利]基于横向排布的四色LED器件在审

专利信息
申请号: 201711382651.1 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN107946424A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 张捷 申请(专利权)人: 西安智盛锐芯半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/08 分类号: H01L33/08;H01L33/06
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)61230 代理人: 黄晶晶
地址: 710075 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 横向 排布 led 器件
【权利要求书】:

1.一种基于横向排布的四色LED器件,其特征在于,包括:

蓝宝石衬底(11);

第一蓝光外延层(10A)和第二蓝光外延层(10B),分别设置于所述蓝宝石衬底(11)上,其中,所述第一蓝光外延层(10A)和所述第二蓝光外延层(10B)的底部相连形成凹槽;

黄光外延层(20)、绿光外延层(30)、红光外延层(40),依次横向设置于所述凹槽内;

多个正电极,分别设置于所述第一蓝光外延层(10A)、所述黄光外延层(20)、所述绿光外延层(30)、所述红光外延层(40)以及所述第二蓝光外延层(10B)上;

钝化层(107),设置于所述第一蓝光外延层(10A)、所述黄光外延层(20)、所述绿光外延层(30)、所述红光外延层(40)、所述第二蓝光外延层(10B)以及所述多个正电极上。

2.如权利要求1所述的器件,其特征在于,第一蓝光外延层(10A)和第二蓝光外延层(10B)的材料相同,包括:第一GaN缓冲层(101)、第一GaN稳定层(102)、第一n型GaN层(103)、第一多量子阱层(104)、第一AlGaN阻挡层(105)以及第一p型GaN(106);其中,所述第一多量子阱层(104)为第一GaN势垒层(104a)和第一InGaN量子阱层(101b)依次周期性层叠分布。

3.如权利要求2所述的器件,其特征在于,所述黄光外延层(20)包括:第二GaN缓冲层(201)、第二GaN稳定层(202)、第二n型GaN层(203)、第二多量子阱层(204)、第二AlGaN阻挡层(205)以及第二p型GaN层(206);其中,所述第二多量子阱层(204)为第二GaN势垒层(204a)和第二nGaN量子阱层(204b)依次周期性层叠分布。

4.如权利要求1所述的器件,其特征在于,所述绿光外延层(30)包括:第三GaN缓冲层(301)、第三GaN稳定层(302)、第三n型GaN层(303)、第三多量子阱层(304)、第三AlGaN阻挡层(305)以及第三p型GaN层(306);其中,所述第三多量子阱层(304)为第三GaN势垒层(304a)和第三nGaN量子阱层(304b)依次周期性层叠分布。

5.如权利要求1所述的器件,其特征在于,所述红光外延层(40)包括:第四GaN缓冲层(401)、n型GaAs缓冲层(402)、n型GaAs稳定层(403)、第四多量子阱层(404)、p型A1GaInP阻挡层(405)以及p型GaAs层(406);其中,所述第四多量子阱层(404)为GalnP势垒层(404a)和A1GaInP量子阱层(404b)依次周期性层叠分布。

6.如权利要求1所述的器件,其特征在于,所述钝化层(107)的材料为SiO2

7.如权利要求1所述的器件,其特征在于,还包括第一隔离层(12)、第二隔离层(22)、第三隔离层(32)以及第四隔离层(42);其中,所述第一隔离层(12)设置于所述黄光外延层(20)的四周,所述第二隔离层(22)设置于所述绿光外延层(30)的四周,所述第三隔离层(32)设置于所述红光外延层(40)的四周,所述第四隔离层(42)设置于所述第二蓝光外延层(10B)的四周。

8.如权利要求7所述的器件,其特征在于,所述第一隔离层(12)、所述第二隔离层(22)、所述第三隔离层(32)以及所述第四隔离层(42)的材料均为SiO2

9.如权利要求1所述的器件,其特征在于,还包括负电极,其中,所述负电极为整个器件的共用负电极。

10.如权利要求9所述的器件,其特征在于,所述负电极和所述正电极均包括金属化合物层以及金属层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安智盛锐芯半导体科技有限公司,未经西安智盛锐芯半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711382651.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top