[发明专利]信息处理方法及电子设备有效
申请号: | 201711386405.3 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN107941812B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 王文韬 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 王姗姗;张颖玲 |
地址: | 100085*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息处理 方法 电子设备 | ||
1.一种信息处理方法,其特征在于,包括:
获取钢材的缺陷信息,其中,所述缺陷信息包括:缺陷的位置信息及尺寸信息;所述尺寸信息至少包括以下之一:一维尺寸信息、二维尺寸信息、三维尺寸信息;
根据所述尺寸信息,判定所述缺陷是否为缺陷的类型;
当所述缺陷为第一类型缺陷时,根据所述缺陷的位置信息进行所述第一类型缺陷的聚类;
根据聚类的结果,确定多个所述第一类缺陷是否聚集形成第二类型缺陷;
其中,所述当所述缺陷为第一类型缺陷时,根据所述缺陷的位置信息进行所述第一类型缺陷的聚类,包括:
根据所述第一类型缺陷的位置信息,计算两个所述第一类型缺陷之间的第一距离;
根据所述第一距离及第一距离阈值进行第一类型缺陷聚类,得到第一聚类簇;
所述根据聚类的结果,确定多个所述第一类缺陷是否聚集形成第二类型缺陷,包括:
根据第一聚类簇的属性信息,确定多个所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据所述尺寸信息,判定所述缺陷是否为缺陷的类型,包括以下至少之一:
当所述尺寸信息表征所述缺陷的尺寸大于第一尺寸阈值时,确定所述缺陷为所述第二类型缺陷;
当所述尺寸信息表明所述缺陷的尺寸小于第二尺寸阈值时,确定所述缺陷为所述第一类型缺陷;
其中,所述第一尺寸阈值大于所述第二尺寸阈值。
3.根据权利要求1所述的方法,其特在于,
所述根据第一聚类簇的属性信息,确定多个所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷,包括:
根据所述第一聚类簇的分布状况信息,确定所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,
所述根据所述第一聚类簇的分布状况信息,确定所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷,包括:
确定所述第一聚类簇的核心点缺陷;
根据所述核心点缺陷的位置信息,计算两个所述第一聚类簇的核心点缺陷之间的第二距离;
根据所述第二距离及第二距离阈值进行聚类,确定是否形成第二聚类簇;
当形成所述第二聚类簇时,确定所述第一类缺陷形成所述第二类缺陷。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,
所述方法还包括:
选择出所述第一聚类簇包括的第一类缺陷的个数大于个数阈值的第一类聚类簇;
所述根据所述第一聚类簇的分布状况信息,确定所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷,包括:
根据选择出所述第一聚类簇的分布状况信息,确定所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷。
6.根据权利要求1所述方法,其特征在于,
所述根据第一聚类簇的属性信息,确定多个所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷,包括以下之一:
根据所述第一聚类簇包括的所述第一类缺陷的个数,确定所述第一类聚类簇内的所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷;
根据所述第一类聚类簇包括的所述第一类缺陷的分布密度,确定所述第一类聚类簇内的所述第一类缺陷是否聚集形成所述第二类缺陷。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述获取钢材的缺陷信息,包括:
图像扫描所述钢材,以形成图像信息;
解析所述图像信息,获得所述缺陷信息。
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