[发明专利]一种版图重复单元匹配性检查方法及系统

权利要求书

1.一种版图重复单元匹配性检查方法，包括如下步骤：

步骤S1，获取芯片的所有层次版图原始设计数据，并据此对版图重复单元建立数据库；

步骤S2，利用步骤S1建立的数据库，对芯片版图进行版图重复单元匹配性检查；

步骤S1进一步包括：

读取芯片的所有层次版图原始设计数据；

筛选出含有重复单元的位置，注入标注层以便于区分各区域；

在标注层中心位置框确定范围抓取最小子单元的图形信息、位置信息、方位信息；

基于最小子单元图形信息进行重复单元比对，计算得到若干类子单元图形和该最小子单元在重复单元内出现的频率，选取最高频图形W作为基准图形存入数据库；

基于图形W的位置信息获取各层次的光学临近修正图层的最小子单元信息U存入数据库。

2.如权利要求1所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，步骤S1还包括基于最小子单元U的信息设置容差范围的步骤。

3.如权利要求1所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，步骤S1还包括基于数据库图形W的图形信息设置关键尺寸的限制范围的步骤。

4.如权利要求1所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，步骤S2进一步包括：

读取芯片版图的原始设计数据，筛选出含有重复单元的位置，注入标注层便于区分各区域；

将重复单元区域内的原始图形和光学临近修正图形分别与步骤S1的数据库中的图形W和图形U的一种尺寸信息进行比对，完全一致即匹配成功；

若匹配不成功将图形的差异区域作为输出层Y输出，对输出层Y进行归类处理，差异值所在图形结构和差异值一致的归为一类；

差异值处于同一个图形结构中进一步压缩差异的种类。

5.如权利要求4所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，于所述将重复单元区域内的原始图形和光学临近修正图形分别与步骤S1的数据库中的图形W和图形U的一种尺寸信息进行比对之前，还包括于重复单元检查区域设置免检区域的步骤。

6.如权利要求2所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，所述容差范围设置为0～0.001um。

7.如权利要求3所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，所述关键尺寸的限制范围设置为+-5％。

8.如权利要求5所述的一种版图重复单元匹配性检查方法，其特征在于，所述重复单元检查免检区域设置为0～0.1um。

9.一种版图重复单元匹配性检查系统，包括：

重复单元数据库建立单元，用于获取芯片的所有层次版图原始设计数据，并据此对版图重复单元建立数据库；

还用于：

读取芯片的所有层次版图原始设计数据；

筛选出含有重复单元的位置，注入标注层以便于区分各区域；

在标注层中心位置框确定范围抓取最小子单元的图形信息、位置信息、方位信息；

基于最小子单元图形信息进行重复单元比对，计算得到若干类子单元图形和该最小子单元在重复单元内出现的频率，选取最高频图形W作为基准图形存入数据库；

基于图形W的位置信息获取各层次的光学临近修正图层的最小子单元信息U存入数据库；

匹配性检查单元，用于利用所述重复单元数据库建立单元建立的数据库，对芯片版图进行版图重复单元匹配性检查。