[发明专利]一种HJT异质结电池及其多层透明导电薄膜在审
申请号: | 201711395346.6 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108231928A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 崔鸽;何永才;郁操;张津燕;徐希翔 | 申请(专利权)人: | 君泰创新(北京)科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0445 | 分类号: | H01L31/0445;H01L31/0224;C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 陈丹;苏蕾 |
地址: | 100176 北京市大兴区经济*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层透明导电薄膜 透明导电薄膜 异质结电池 掺量 制备 光电性能 过渡过程 连续制备 真空条件 真空状态 第一层 功函数 多层 两层 申请 匹配 电池 | ||
一种多层透明导电薄膜及其制备方法,所述多层透明导电薄膜包括至少两层叠加的透明导电薄膜,至少两层透明导电薄膜均为ITO薄膜,所述第一层ITO薄膜的锡的掺量为10‑15重量%,所述第二层ITO薄膜的锡的掺量≥5重量%且<10重量%;所述制备方法包括:在真空条件下连续制备多层ITO薄膜,并且在一层ITO薄膜与另一层ITO薄膜的过渡过程中,维持真空状态。本申请还提供了一种包括上述多层透明导电薄膜的HJT异质结电池。本申请的多层透明导电薄膜的光电性能较好,与p、n型非晶硅层的功函数匹配;HJT电池的各项性能指标都得到了提升。
技术领域
本申请涉及但不限于太阳能电池工艺技术领域,特别涉及但不限于一种HJT异质结电池及其多层透明导电薄膜。
背景技术
异质结非晶硅/晶硅太阳能电池HJT(Hetero-junction with Intrinsic Thinlayer,简称HJT)是目前主流的高效太阳能电池。其基本结构通常如图1所示,包含1:晶体硅;2:本征非晶硅层;3:p型非晶硅层;4:n型非晶硅层;5:透明导电薄膜层;6:正面栅线;7:背面栅线。
氧化铟锡薄膜(Indium Oxide doped Tin Film,简称ITO)由于具有低电阻率、高可见光透过率等优良的物理特性,被广泛应用于HJT太阳能电池的透明导电薄膜层。
ITO在HJT电池中起着导电和减反射膜的作用。目前广泛使用的ITO均为单层膜。作为减反膜,传统的1/4波长单ITO层膜仅对特定波长的小角度入射有很好的减反射效果。为了更好地满足HJT电池的减反射要求,多层减反膜应运而生。
发明内容
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
本申请提供了一种能够改善HJT太阳能电池性能的多层透明导电薄膜。
具体地,本申请提供了一种多层透明导电薄膜,所述多层透明导电薄膜包括至少两层叠加的透明导电薄膜,至少两层透明导电薄膜均为ITO薄膜,所述第一层ITO薄膜的锡的掺量为10-15重量%,所述第二层ITO薄膜的锡的掺量≥5重量%且<10重量%。
在一些实施方式中,所述多层透明导电薄膜还可以包括第三层ITO薄膜,所述第一层ITO薄膜、所述第二层ITO薄膜和所述第三层ITO薄膜按顺序设置,所述第三层ITO薄膜的锡的掺量可以≥1重量%且<5重量%,或为10-15重量%。
在一些实施方式中,所述第一层ITO薄膜的锡的掺量可以为10重量%,所述第二层ITO薄膜的锡的掺量可以为5重量%,所述第三层ITO薄膜的锡的掺量可以为3重量%。
在一些实施方式中,所述多层透明导电薄膜还可以包括第四层ITO薄膜,所述第一层ITO薄膜、所述第二层ITO薄膜、所述第三层ITO薄膜和所述第四层ITO薄膜按顺序设置,所述第四层ITO薄膜的锡的掺量可以为10-15重量%。
在一些实施方式中,所述第一层ITO薄膜的锡的掺量可以为10重量%,所述第二层ITO薄膜的锡的掺量可以为5重量%,所述第三层ITO薄膜的锡的掺量可以为3重量%,所述第四层ITO薄膜的锡的掺量可以为10重量%。
在一些实施方式中,每一层ITO薄膜的厚度可以在15-50nm的范围内。
在一些实施方式中,每一层ITO薄膜的折射率n可以在1.8-2.0的范围内,禁带宽度可以在3.0-4.6eV的范围内,载流子浓度可以在(1-10)×1020cm-3的范围内,载流子迁移率可以在10-50cm2/vs的范围内。
本申请还提供了如上所述的多层透明导电薄膜的制备方法,所述方法包括:在真空条件下连续制备多层ITO薄膜,并且在一层ITO薄膜与另一层ITO薄膜的过渡过程中,维持真空状态。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的