[发明专利]中空微球的热喷涂沉积在审
申请号: | 201711399206.6 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108220865A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | M·J·沃克 | 申请(专利权)人: | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 |
主分类号: | C23C4/129 | 分类号: | C23C4/129;C23C4/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 韦欣华;杨思捷 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘涂层 中空微球 喷射流 热喷涂 基底 热喷涂沉积 压力条件 变型 热导率 热容量 氧火焰 喷涂 金属 | ||
1.一种形成绝缘涂层的方法,包含:
从高速氧燃料(HVOF)装置朝向基底喷射包含多个中空微球的流,其中,所述多个中空微球中的每一个均包含第一金属层和第二金属层,所述第一金属层包含选自由镍、铁、其组合及其合金组成的组中的第一金属,所述第二金属层包含选自由铜、锌、锡、镍、其组合及其合金组成的组中的第二金属,其中,所述流在所述喷射期间的最高温度至少低于所述第一金属的熔点约50℃,但大于或等于所述第二层的熔点;以及
在标准温度和压力条件下在所述基底上形成具有小于或等于约200mW/m·K的热导率(K)的所述绝缘涂层。
2.如权利要求1所述的方法,其中,在所述热喷涂之后,所述绝缘涂层包含具有完整空隙区域的多个中空微结构。
3.如权利要求1所述的方法,其中,所述绝缘涂层具有大于或等于约80体积%的净孔隙率,并且所述绝缘涂层具有小于或等于约200微米(μm)的厚度。
4.如权利要求1所述的方法,其中,所述最高温度为大于或等于约900℃至小于或等于约1400℃。
5.如权利要求1所述的方法,其中,所述基底包含选自由铁、铜、锌、锡、镍、铝、其组合及其合金组成的组中的至少一种金属。
6.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一金属层包含镍并且所述第二金属层包含铜。
7.如权利要求1所述的方法,其中,所述热导率(K)小于或等于约100mW/m·K。
8.如权利要求1所述的方法,其中,所述绝缘涂层具有小于或等于约100kJ/m3·K的热容量(cv)。
9.如权利要求1所述的方法,进一步包含在所述喷射之后烧结所述绝缘涂层。
10.一种形成绝缘涂层的方法,包含:
从高速氧燃料(HVOF)装置向基底喷射包含多个中空微球的流以形成沉积中空微结构层,所述中空微球包含镍,其中,所述流在所述喷射期间具有大于或等于约900℃至小于或等于约1400℃的最高温度,其中,所述多个中空微球中的每一个均包含第一金属层和第二金属层,所述第一金属层包含选自由镍、铁、其组合及其合金组成的组中的第一金属,所述第二金属层包含选自由铜、锌、锡、镍、其组合及其合金组成的组中的第二金属;以及
烧结所述沉积中空微结构层,以在标准温度和压力条件下在所述基底上形成具有小于或等于约200mW/m·K的热导率(K)和小于或等于约100kJ/m3·K的热容量(cv)的所述绝缘涂层。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆