[发明专利]含氟热化学气相沉积方法和制品

权利要求书

1.热化学气相沉积处理的制品，其包含：

基材；和

所述基材上的疏油处理层，所述疏油处理层具有氧、碳、硅、氟、和氢；

其中所述疏油处理层的处理厚度小于600nm且具有不均匀的润湿机制。

2.根据权利要求1所述的制品，其中所述疏油处理层为经氧化然后氟官能化的二甲基硅烷化学气相沉积处理层。

3.根据权利要求1所述的制品，其中与具有大于700nm的相当厚度的相同处理层相比，所述疏油处理层具有更大的抗热氧化性。

4.根据权利要求1所述的制品，其中与具有大于700nm的相当厚度的相同处理层相比，所述疏油处理层具有基本上相同的十六烷接触角测量值。

5.根据权利要求1所述的制品，其中所述疏油处理层的厚度在340-540nm之间。

6.根据权利要求1所述的制品，其中所述疏油处理层的厚度小于500nm。

7.根据权利要求1所述的制品，其中所述疏油处理层在十六烷接触角测量过程中具有液体-空气复合体系。

8.根据权利要求1所述的制品，其中所述疏油处理层的粗糙度比为1，所述粗糙度比为所述疏油处理层的真实表面积除以十六烷接触角测量过程中的表观表面积。

9.根据权利要求1所述的制品，其中所述基材是不锈钢。

10.根据权利要求1所述的制品，其中所述基材是铝合金。

11.根据权利要求1所述的制品，其中所述基材是在等离子体环境下易于电弧放电的材料。

12.根据权利要求1所述的制品，其中所述制品具有三维轮廓，所述三维轮廓具有视线被遮挡的遮挡区域，所述疏油处理层位于所述遮挡区域上。

13.制备根据权利要求1所述的制品的方法。

14.热化学气相沉积处理的制品，其包含：

基材；和

所述基材上的疏油处理层，所述疏油处理层具有氧、碳、硅、氟、和氢；

其中所述疏油处理层的粗糙度比为1，所述粗糙度比为所述疏油处理层的真实表面积除以十六烷接触角测量过程中的表观表面积。

15.热化学气相沉积方法，其包括：

将制品放置在热化学气相沉积室内；

使二甲基硅烷热反应以产生层；

氧化所述层以产生氧化层；和

对所述氧化层进行氟官能化以产生经氧化然后氟官能化的二甲基硅烷化学气相沉积处理层；

其中所述经氧化然后氟官能化的二甲基硅烷化学气相沉积处理层的处理厚度小于600nm且具有不均匀的润湿机制。